荷兰 ASML 公司被禁止向中国出口EUV光刻机

极紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常常被称作EUV光刻。光刻机决定着半导体工艺的制程工艺，7nm以及以上的工艺离不开EUV光刻机，EUV光刻技术使晶体管密度和性能都变得更好。因而EUV光刻机成为众多半导体厂商的心头之好。

有消息称，荷兰政府将根据瓦森纳国际协议，禁止阿斯迈公司向中国出口极紫外光刻机。美国施压荷兰，禁止向中国出口 EUV 光刻机，美国方面为“阻止荷兰向中国出售芯片制造技术”，暗中进行了大量工作。据悉，美国的单方面 “阻止运动” 开始于 2018 年，荷兰政府向 ASML 发放了出口许可证，允许其向中国公司中芯科技出口一台价值 1.5 亿美元的 EUV 光刻机。

据消息人士透露，在荷兰政府发放出口许可证之后的几个月中，美国的政府官员仔细研究了他们是否可以彻底阻止出售，并与荷兰政府相关人士进行了至少四轮谈判。

而对于此前已经购买的价值 1.5 亿美元的 EUV 光刻机，原计划应在 2019 年年初就交付到中国。不过，后来 ASML 方面因仓库遇火延后了 EUV 光刻机的交付时间，改为在 2020 年的年中交付。

在媒体首次报道延迟交货时，荷兰 ASML 公司表示，公司仍在等待新许可证申请的批准，并拒绝进一步给予评论。

另外，对于美国政府的施压的说法，荷兰外交部发言人在 1 月 15 日表示，在决定是否签发出口许可证时，荷兰政府要权衡经济和安全利益。

关于此事，中国方面也表明了态度。2020 年 1 月 17 日，据《金融时报》报道，中国驻荷兰大使徐宏在采访中表示，如果媒体报道属实，即如美国向荷兰施压，荷兰政府因此不再批准向中国出口 EUV 光刻机，那么这种做法就是典型的将商业问题政治化。按照相关法律及国际协议，美国没有理由要求荷方限制 ASML 对华出口。

另外，徐宏还表示，希望荷兰政府能综合考虑自身利益、荷兰企业利益，本着公平贸易及法治的精神，作出正确判断。如果荷兰政府在政策取向上追随美国，基于政治原因对中荷经贸往来施加不公平的限制，毫无疑问将会影响两国合作。因为所有的合作都应当是对等互惠的。

EUV 光刻机是何物?

在主流微电子制造过程中，光刻是最复杂、昂贵和关键的工艺，占总成本的 1/3;目前的 28nm工艺则需要 20 道以上光刻步骤，耗费时间约占整个硅片工艺的 40-60%。

光刻工艺决定着整个 IC 工艺的特征、尺寸，代表着工艺技术发展水平。由于高技术要求，光刻机制造难度极大，全世界只有少数几家公司能够制造，主要有 ASML、Nikon 和 Canon 等。

而 EUV 光刻机作为现今最先进的芯片制造设备，是唯一能够生产 7nm 以下制程的设备，因此，其也被称为“突破摩尔定律的救星”。也就是说，必须使用 EUV 光刻机才能使半导体芯片进入 7nm，甚至 5nm 时代。

在 EUV 光刻机的生产上，ASML 公司是该领域的领军企业，同时也是全球唯一能生产 EUV 的企业。

据了解，ASML 的设备使用由激光产生，并通过巨型镜子聚焦的极紫外光束，在硅片上铺设非常狭窄的电路。这能让厂商制造更快、更强大的微处理器、内存芯片和其他先进元件;而这些元件不论是对消费类电子产，还是对军事应用来说都至关重要。

目前，国内光刻机厂商有上海微电子、中电科集团四十五研究所、合肥芯硕半导体等，但由于技术难度巨大，但短期内还是处于相对劣势的地位。我国光刻机与世界先进水平的差距在于制造工艺的差距，唯有突破技术，才能突破封锁。