不用光刻也能造出5nm？这项专利有点“神”

众所周知，传统的芯片制造离不开光刻技术，尤其是5nm及以下制程工艺，更是需要先进的极紫外光刻技术才能完成。然而，最近有一项专利“打破”了这种传统制造工艺方式。

根据天眼查公开的信息显示，这项专利名称为“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”，申请日期为2023年7月11日，申请公布日为2023年9月8日，申请公开号为CN116721916A。

根据专利摘要显示，该发明提供的是一种5nm芯片制造的直接蚀刻方法，涉及芯片设计及制造。其最大的亮点在于，无需光刻，直接蚀刻就可以制造5nm芯片。

▲图片来源：天眼查

该发明的具体方案是：按5nm蚀刻线宽设计芯片版图，设计蚀刻掩模版后，用激光直写光刻机刻出蚀刻掩模版；晶圆准备好后将蚀刻掩模版紧靠晶圆上表面，用等离子体进行干法蚀刻；蚀刻结束后移去蚀刻掩模版，清洁晶圆，进行后续常规的芯片制造步骤（离子注入、形成完整的晶圆结构、芯片封测）。

蚀刻掩模版包括聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）涂层和金属钛板，金属钛板做成朝上的盘子形状，在盘状边沿均匀设置安装孔，金属钛板中间的圆盘部分两面涂覆聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）涂层，固化在金属钛板上。

据专利摘要介绍，该发明不用光刻设备，不需要光刻过程，直接蚀刻就可以制造5nm芯片（下图最后一句）。

▲专利原理介绍

据悉，申请这项专利的是“上海创消新技术发展有限公司”。该公司成立于2019年3月，注册资本仅50万元，法定代表人为刘明革，经营范围主要包括机械技术、电子技术、化工技术、建筑技术，以及生物技术领域内的技术开发、技术服务等。

不过，值得注意的是，该公司的经营范围并不包含芯片相关的内容，比如芯片设计、芯片制造等。

另外，从股东信息来看，该公司总经理刘明革持有85%的股份，他同时也是上海敏革化学科技有限公司的股东和监事；而执行董事刘佳慧则持有15%的股份。除了二人之外，并没有什么大公司持有上海创消新技术发展有限公司的股份。

▲天眼查显示的“上海创消新技术发展有限公司”相关信息

目前，该专利正处于“审中”状态，还未取得正式授权。因此，我们无法确认这项专利的技术可行性。

不过，从天眼查披露的相关信息来看，如果这项专利将来能够获批有效，那这技术简直就是“天降福音”。

▲天眼查显示的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利信息

最后，对于这项专利，大家有何看法？是“真看好”，还是“纯炒作”？欢迎在评论区留言，阐述你的观点。