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[导读]近日,天眼查公开了一项新专利,据说无需光刻,直接蚀刻就可以制造5nm芯片。不过,该专利目前仍处于“审中”状态。所以,到底是“真技术”还是“搞噱头”,还有待市场考验!

众所周知,传统的芯片制造工艺离不开光刻技术,尤其是5nm及以下制程工艺,更是需要先进的极紫外光刻技术才能完成。然而,最近有一项专利“打破”了这种传统制造工艺方式。

根据天眼查公开的信息显示,这项公开的专利名称为“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”,申请日期为2023年7月11日,申请公布日为2023年9月8日,申请公开号为CN116721916A。

根据专利摘要显示,该发明提供的是一种5nm芯片制造的直接蚀刻方法,涉及芯片设计及制造。其最大的亮点在于,无需光刻,直接蚀刻就可以制造5nm芯片。

不用光刻也能造出5nm?这项专利有点“神”

▲图片来源:天眼查

该发明的具体方案是:按5nm蚀刻线宽设计芯片版图,设计蚀刻掩模版后,用激光直写光刻机刻出蚀刻掩模版;晶圆准备好后将蚀刻掩模版紧靠晶圆上表面,用等离子体进行干法蚀刻;蚀刻结束后移去蚀刻掩模版,清洁晶圆,进行后续常规的芯片制造步骤(离子注入、形成完整的晶圆结构、芯片封测)。

蚀刻掩模版包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)涂层和金属钛板,金属钛板做成朝上的盘子形状,在盘状边沿均匀设置安装孔,金属钛板中间的圆盘部分两面涂覆聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)涂层,固化在金属钛板上。

据专利摘要介绍,该发明不用光刻设备,不需要光刻过程,直接蚀刻就可以制造5nm芯片。

不用光刻也能造出5nm?这项专利有点“神”

▲专利原理介绍

据悉,申请这项专利的是“上海创消新技术发展有限公司”。该公司成立于2019年3月,注册资本仅50万元,法定代表人为刘明革,经营范围主要包括机械技术、电子技术、化工技术、建筑技术,以及生物技术领域内的技术开发、技术服务等。

不过,值得注意的是,该公司的经营范围并不包含芯片相关的内容,比如芯片设计、芯片制造等。

另外,从股东信息来看,该公司总经理刘明革持有85%的股份,他同时也是上海敏革化学科技有限公司的股东和监事;而执行董事刘佳慧则持有15%的股份。除了二人之外,并没有什么大公司持有上海创消新技术发展有限公司的股份。

不用光刻也能造出5nm?这项专利有点“神”

▲天眼查显示的“上海创消新技术发展有限公司”相关信息

目前,该专利正处于“审中”状态,还未取得正式授权。因此,我们无法确认这项专利的技术可行性。

不过,从天眼查披露的相关信息来看,如果这项专利将来能够获批有效,那这技术简直就是“天降福音”。

不用光刻也能造出5nm?这项专利有点“神”

▲天眼查显示的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利信息

对于这项专利,大家有何看法?是“真看好”,还是“纯炒作”?欢迎在评论区留言,阐述你的观点。

最后,附上天眼查公开的专利详情,感兴趣的小伙伴可以看一看:

不用光刻也能造出5nm?这项专利有点“神”

不用光刻也能造出5nm?这项专利有点“神”

不用光刻也能造出5nm?这项专利有点“神”

不用光刻也能造出5nm?这项专利有点“神”

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