MetaOptics在台湾部署直写式激光光刻设备，助力原型机设计与生产

新加坡2025年9月24日 /美通社/ -- 前沿半导体光学公司MetaOptics Ltd（新加坡交易所凯利板上市代码：9MT）已在位于台湾桃园的品颉奈米光学股份有限公司(Pin-Jye Nano Technologies Co., Ltd.)部署其直写式激光光刻系统。此次安装使超透镜的原型机设计与制造更贴近该地区的半导体供应链，标志着MetaOptics全球扩张迈出了重要一步。

通过构建本地开发能力，MetaOptics将会助力合作伙伴更快地进行产品迭代，并更高效地将概念转化为产品。桃园基地还将成为扩大生产与开展合作的跳板。MetaOptics计划增设直写式激光光刻设备和自动测试仪，以提升产能，满足日益增长的超透镜市场需求。作为这些努力的一部分，MetaOptics正在针对共封装光学(CPO)开发超透镜解决方案，并已展示出达到150纳米及以下精度的纳米制造能力。CPO现在是一项强大的新兴技术，通过将数据传输介质从铜缆转向光传输，有望为人工智能(AI)基础设施带来革命性变革。MetaOptics的超透镜阵列使光学接收器和收发器比传统微光学器件更小巧，从而构建出更紧凑、可扩展性更强的系统。

MetaOptics Ltd执行主席兼首席执行官程章金(Mark Thng)表示:"台湾地处全球半导体产业的核心地带。此次部署让我们更贴近我们的合作伙伴，使我们能够以更快的交付周期、更优的集成方案以及可扩展的发展路径，为他们提供支持。"

除了扩大在台湾的超透镜产能外，MetaOptics还在探索进军美国市场，以便更好地服务核心客户。为了支撑这一发展布局，MetaOptics已提前锁定长交期关键零部件，以确保能够更快地复制其直写式激光光刻设备。MetaOptics的直写式激光光刻设备可以实现最小90纳米的线宽精度，其工艺水准远超同类竞争系统。

展望未来，MetaOptics将与主要半导体原始设备制造商(OEM)合作，打算进一步升级其直写式激光光刻技术，以实现12英寸晶圆尺寸的加工，并支持多透镜同步写入功能。这种无掩模工艺与多透镜写入技术相结合，预计将显著提升产能，并为规模化生产开创全新机遇。

这些努力是MetaOptics愿景的重要组成部分，旨在通过简化超透镜的设计、测试及现实世界商业化流程，推动该技术更广泛地普及应用。随着直写式激光光刻设备的交付，MetaOptics预计2025财年的营收将显著高于2024财年。

MetaOptics Ltd简介

MetaOptics Ltd（凯利板上市代码：9MT）是一家前沿半导体光学企业，专注于开发基于玻璃材质的超透镜解决方案，并利用由AI驱动的图像处理技术予以加强。该公司采用先进的光学设计及可扩展的12英寸深紫外(DUV)光刻工艺，为共封装光学、移动设备、增强现实/虚拟现实(AR/VR)、汽车电子及其他新兴市场提供下一代应用支持。MetaOptics总部位于新加坡，致力于以当今最具创新力的科技品牌所要求的可靠性与可扩展性，交付高性能光学产品。