ASML表态: 没有EUV光刻机，芯片厂商造不出7nm以下工艺芯片

作为半导体芯片生产过程中最重要的装备，光刻机一直牵动人心。事实上，制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。

光刻是半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一，而且它决定了芯片的工艺水平，常说的XXnm工艺主要是看光刻机水平，10nm工艺之后难度越来越大，光刻机也需要升级到EUV级别。

ASML副总裁Anthony Yen日前表态，如果没有EUV光刻机，那么芯片厂商是造不出7nm以下工艺芯片的。

目前ASML公司是唯一一个能生产EUV光刻机的公司，他们做出这样的表态其实也不让人意外，毕竟这是一台售价高达1.2亿欧元、约合10亿一台的高端设备，全球半导体制造厂商都要看ASML的脸色。

台积电在第一代7nm工艺上没有使用EUV光刻机，但是7nm之后的工艺就很难避开EUV光刻机了，理论上可以用多重曝光的方式制造5nm级别的芯片，但是成本、良率都是个问题，无法拒绝EUV光刻机。