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[导读]7月30日消息 中微半导体设备(上海)股份有限公司(简称 “中微公司”)今日宣布推出 Prismo HiT3 MOCVD 设备,主要用于深紫外 LED 量产。中微 Prismo 系列 MOCVD 设备

7月30日消息 中微半导体设备(上海)股份有限公司(简称 “中微公司”)今日宣布推出 Prismo HiT3 MOCVD 设备,主要用于深紫外 LED 量产。

中微 Prismo 系列 MOCVD 设备目前已进入全球大多数领先的蓝绿光 LED 制造商,获悉,此次推出的 Prismo HiT3是中微 Prismo 系列 MOCVD 设备的最新产品。该设备是适用于高质量氮化铝和高铝组分材料生长的关键设备,反应腔最高温度可达 1400 度,具有优异的工艺重复性、均匀性和低缺陷率。该设备同时也为高产量而设计,单炉可生长 18 片 2 英寸外延晶片,并可延伸到生长 4 英寸晶片。

中微公司 Prismo HiT3 MOCVD 设备早期的客户包括国内领先的深紫外 LED 制造商马鞍山杰生半导体有限公司,该公司的深紫外 LED 在家用、医疗和科研设备等领域有广泛应用。

深紫外光几十年前就被应用于工业和民用消毒杀菌领域。它通过破坏细菌和病毒的 DNA 使其丧失繁殖能力来发挥作用。深紫外 LED 被用于不同波长的杀菌灯中,且与传统的汞灯相比对环境无污染。类似 SARS、MERS 和新冠病毒的出现使得深紫外 LED 产品的需求激增,深紫外 LED 产品可以消灭这些新生微生物。波长 260-280nm 的 UVC 波段的深紫外光就是目前该领域最先进的技术解决方案(例如杰生半导体的深紫外 LED 产品)。

中微公司设计的 Prismo HiT3 MOCVD 设备具有新颖腔体设计,能在高温环境下生长高质量氮化铝工艺,并具有业内领先的深紫外 LED 高产出率;同时具备较长的平均免开腔维护间隔时间,进一步延长正常运行时间并提高产能。真空自动化传输系统可以抑制颗粒物的产生,并减少缺陷。自动化升降机构可方便维护操作并有效节省维护时间。

中微公司表示,“中微自主研发的 Prismo HiT3 MOCVD 设备延续了我们现有 Prismo 平台已验证的主要创新功能,并提升了可在高温工艺环境下生长氮化铝基材料的性能,使之拓展到深紫外 LED 的应用。”

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