当前位置:首页 > 模拟 > 模拟
[导读]台湾半导体制造公司(TSMC)已经重申,将兴建其首座450毫米(18英寸)的中试生产线将在2016年到2017年为客户提供10nm和7nm FinFET晶体管代工技术。台积电也希望采用极端紫外线(EUV)光刻技术来生产10nm芯片,相关生产设备

台湾半导体制造公司(TSMC)已经重申,将兴建其首座450毫米(18英寸)的中试生产线将在2016年到2017年为客户提供10nm和7nm FinFET晶体管代工技术。

台积电也希望采用极端紫外线(EUV)光刻技术来生产10nm芯片,相关生产设备将在2017年底进场。

台积电300mm晶圆厂经营副总裁表示,设备供应商之前对是否生产18英寸晶圆制造设备犹豫不决,不过,业内人士现在意识到晶圆过渡到18英寸的必要性。目前,每一个主要的设备制造商,他们R&D资本支出当中,有15%拨给18英寸晶圆生产设备开发制造。

台积电希望到2015年底,完成安装18英寸晶圆制造所需大部分设备,并预计在2016年和2017年之间建造其第一个18英寸的中试线。台积电的18英寸设备将主要代工生产出10nm和7nm芯片。

本站声明: 本文章由作者或相关机构授权发布,目的在于传递更多信息,并不代表本站赞同其观点,本站亦不保证或承诺内容真实性等。需要转载请联系该专栏作者,如若文章内容侵犯您的权益,请及时联系本站删除( 邮箱:macysun@21ic.com )。
换一批
延伸阅读
关闭