EVG推出EVG620HBL光刻系统

EVG在SEMICON China 2011展会期间推出EVG620HBL光刻系统。 这一全新的EVG620HBL全自动光刻系统以经过实战作业验证的EVG光刻机平台为基础，旨在优化高亮度发光二极管(HB - LED)、复合半导体和动力电子设备的生产制造。据悉，EVG620HBL增加了一个高强度紫外线光源和五个向盒装卸台，可以不间断地制造设备。因此，EVG620HBL全自动光刻系统的产量无可匹敌，每小时可生产多达165个的六英寸晶片(在第一种刻印模式下每小时生产的晶片可多达220个)，拥有行业内最高水平的对准精确度和产量。

根据市场研究公司Global Information, Inc.的统计，在未来的十年中，高亮度LED(HB - LED)的全球消费量将继续快速增长，预计其消费规模将从2010年的100.9亿美元增长到2020年的460.5亿美元。实现这一增长的主要推动因素包括使用电晶体的照明设备及一般照明设备，还有标志、专业显示器和稳态(非机动车)信号等的爆发性增长。为满足不断增长的市场需求，广大HB-LED制造商必须尽快提高产能，同时优化制造流程，以保证最高产量，这些问题都推动了他们对最低购置成本购买自动化制造解决方案的需求。

与去年7月推出的专用EVG560HBL自动化晶片键合系统一样，EVG开发出了EVG620HBL光刻机来满足这些需求。EVG并不是高亮度LED市场上的新面孔，它所生产的键合机和光刻机正在被五大HB-LED制造商中的四家所使用。在这一成功的基础上，EVG应客户对光刻系统的需求，推出了620HBL以满足这些设备的收益和产量要求。

EVG620HBL的另一个关键特性是具备利用特殊工艺配方控制的显微镜，其照明范围经过优化，可保证与各种晶片及各层材料达到最佳图像对比，包括各种先进的基材，如蓝宝石、碳化硅(SiC)、氮化铝(AlN)、金属和陶瓷等。

EVG执行技术总监保罗-林德纳(Paul Lindner)表示，“我们从未间断研发工作，并注重设备制造和工艺工程的创新，这使得EVG能够始终为我们的客户提供其所期待的顶级大批量制造解决方案。就在上个月，一家领先的高亮度LED制造商向我们订购了一台EVG560HBL键合机。这一最新产品同样具备易碎或扭曲晶片高精确度处理与对准功能，我们期待能够利用该产品实现最新拓展”。