学习最新技术，中国年轻FPD技术人员充满热情

在2010年12月10日于北京召开的“中国·北京2010年国际平板显示产业高峰论坛（FPD International CHINA 2010 / Summit and Seminar）”的技术分科会上，除了探讨有机EL、氧化物半导体、3D显示器等热门技术的“高端技术讲座”外，同时还举办了传授面板部件材料与制造工艺最新技术的“技术讲座”。虽然所讲为基础性内容，但会场内依然涌进了200多位听众。年轻的技术人员为了不错过讲师所说的每一个字，一边听讲一边认真做笔记的身影给人留下深刻印象。

图：中国年轻FPD技术人员坐满讲堂（点击放大）


发表FPD产业长期发展蓝图，“成长仍将持续”

在日本特邀讲师的主题演讲中，从事FPD业务近20年的两位讲师介绍了FPD产业未来的长期发展蓝图。演讲人是在日本IBM长年从事液晶面板业务的 Tech and Biz总经理北原洋明和在AKT长年从事液晶制造装置业务的Advanced Data Research（ADR）总经理高多清作。两人在演讲中都明确认为“FPD产业今后仍将持续成长”。

在展示到2030年为止的FPD产业发展蓝图时，北原表示今后“怎样保证绿色”将成为重点。因此，光学薄膜和背照灯等影响FPD光利用率的面板部件材料的开发将变得尤为重要。北原介绍说：“三星将面板透射率的目标从4～6％提高到8％、夏普采用光配向技术都是绿色日趋重要的表现”。

高多的主题演讲题为“前途依然光明的液晶产业”，他为中国听众送上了鼓励的话语。演讲内容是高多根据近20年经验，对FPD产业今后20年所做展望。高多预测：“现在32英寸电视的平均价格是400美元，但根据过去的经验推测，到7年后的2017年，面积是其4倍的64英寸电视的平均价格将降至400 美元，FPD电视市场按面积计算将增加到现在的4倍”。“2025年将再增加4倍，到2035年还将再增加4倍”（高多）。高多铿锵有力地表示：“生产线的换代虽然必要，但只要努力削减成本，FPD市场就会无限拓展”。

中日韩专家讲解面板部件材料最新技术

对于面板部件材料和制造工艺的各项技术，来自日本、韩国、中国的专家在峰会上分别进行了讲解。

面板部件材料方面，北京科技大学教授杨槐使用手性向列相（chiral nematic phase）液晶材料的最新研发发表了主题演讲。介绍了备受期待的新一代液晶技术——蓝相（blue phase）稳定化技术、反射型电子纸的显示元件、提升背照灯亮度的反射型偏光膜应用等。从中可以让人感受到中国正在稳步地推进液晶材料的基础性研究。

光刻胶厂商东进世美肯（韩国Dongjin Semichem）的常务理事金柄郁（Byun Uk Kim）就2015～2020年的印刷电子、柔性电子技术发表了演讲。并且就目前使用玻璃基板的光刻技术指出，使掩模数量从4张减少到3张的技术、提高开口率所需的有机绝缘膜、Cu布线制程用药液、无掩模技术的开发等将趋于重要。

经营液晶面板配向膜和彩色滤光片彩色光阻（color resist）等材料的JSR显示器研究所所长梶田彻就新一代FPD材料发表了演讲。梶田表示，在FPD材料的研究开发中，为了在有助于降低面板成本的同时获得规模效益，实现新一代高附加值面板，开展技术革新是必经之路。梶田以“绿色与环境”为关键词，按照配向膜、彩色光阻、用于提高开口率的有机膜、光阻间隙（Photo Spacer）的顺序，对各种材料的开发状况进行了讲解。

在中国从事液晶面板工厂设计的世源科技工程的总经理杜晓阳（Xiaoyang Du）就怎样在短期内建成大规模工厂给出了广泛的建议。杜晓阳讲解了中国的特殊情况，表示中国与他国相比规定严格，取得各项批准需要耗费大量时间，对构筑信息交流平台，从设计阶段开始推进标准化的重要性等方面进行了介绍。据悉该公司包揽了中国全部TFT液晶面板工厂的设计。

住友化学集团住化电子材料科技（无锡）的技术顾问林成年就该公司在中国的FPD材料业务发表了演讲。该公司目前在上海工厂和无锡工厂生产偏光板，在合肥工厂生产药液。今后，该公司计划配合京东方光电科技的第8.5代工厂的开工，于2011年第三季度成立北京工厂，开始供应偏光板。此外，新业务方面，林成年表示该公司还将着手导光板、药液、铝靶等业务。

介绍低温多晶体硅再结晶，TFT曝光和蚀刻的最新技术

制造工艺方面，首先，首尔大学教授朱承基（Seung-Ki Joo）就降低低温多晶体硅TFT基板成本所需的MILC（metal-induced lateral crystallization）技术的最新研发发表了主题演讲。朱承基表示，作为备受期待的新一代FPD，在有机EL面板的发展中，采用MILC技术的高性能、低成本低温多晶体硅TFT基板“非常重要”。朱承基认为，MILC技术比现在主流的准分子激光退火（excimer laser anneal）技术可靠性高，而且工艺简单，成本低，成品率高。并且便于在底栅TFT的生产中使用。

接着，佳能液晶机器设计中心所长滝泽毅结合影像资料，介绍了该公司自主开发的支持大型玻璃基板的镜像投影方式曝光装置。佳能现在拥有支持第5代、第6 代、第8代基板的曝光装置。在中国市场上，2010年的市场份额高达88％。滝泽还介绍了开发支持第10代和第11代的装置的基本方针。在光学投影系统的开发中，佳能将分别推动光学部件的大型化、加工设备的全新开发、光掩模大型化的应对、曝光光源的大型化等。在装置的开发中，将进行一步发展佳能的“智能平台”方式。为实现轻量化曝光台将采用新材料。

最后，东电电子FPD业务本部FPD部门副总经理松浦次彦就干法蚀刻设备的涂胶显影设备的技术动向发表了演讲。关于干法蚀刻，松浦首先介绍了支持大型基板中面临的课题。松浦指出，最大的课题在于兼顾等离子的均匀性和蚀刻处理速度。而且，第10代使用的设备不同于第8代之前，需要在客户方进行组装。因此，未来向中国提供支持第10代的设备时，中方需要准备组装的基础设施。其他开发课题方面，松浦举出了对于备受期待的后非晶体Si——氧化物半导体 IGZO（In-Ga-Zn-O）。涂胶显影设备方面，松浦对确保60秒以下的间歇时间、确保4张掩模制造中光刻胶膜厚的均匀性、对2μm线宽的支持等方面进行了讲解。重点讲解了把玻璃基板的气浮和搬运技术应用于涂胶中的效果。最后，松浦介绍了在昆山市设立的制造设备生产基地“东电光电半导体设备（昆山）有限公司”，表示“将以此为起点推进合作”。（记者：田中 直树） [!--empirenews.page--]