SMEE携支持PSS和电极工艺光刻机进军LED领域

致力于投影光刻机研发、生产、销售与服务的上海微电子装备有限公司(以下简称SMEE)，日前携SSB300系列LED步进投影光刻机亮相2014广州国际LED展。首台LED步进投影光刻机的推出，不仅满足了国内LED厂家对更高品质产品的需求，更是扭转了多年来国内LED芯片制造企业不得不使用国外二手设备的局面。在展会现场， SMEE市场开发部经理李志丹就光刻机产品特色及市场需求的相关问题接受了记者的采访。

一次亮相：品质突出市场需求量大增

SSB300系列步进投影光刻机是国内首款专门面向亚微米2-6英寸晶圆光刻工艺需求的光刻设备，可支持LED图形化蓝宝石衬底生产工艺、LED芯片电极曝光、MEMS和Power Devices生产工艺等，具有国际先进水平。

其特点有：

第一、适用于2~6英吋基底LED的PSS和电极的光刻工艺。可以应对大翘曲蓝宝石基底的曝光，能够实现2~6英吋基底的自动切换，能够在生产中实时监测基底面型，保证客户在使用过程中不再受吸盘污染的困扰。

第二、采用高性能缩减式物镜，确保亚微米分辨率和高曝光均匀性;精密特制的运动台系统可实现高精度的图形拼接与精确的套刻。

第三、具有低使用成本、高曝光均匀性、高产能等一系列优点，可满足LED生产线对设备高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生产需求。除此之外，该系列产品机台还能够适应硅、SiC等多种基底的曝光、可选背面对准配置，使机台的应用扩展至MEMS领域。

李志丹告诉记者说，“除了用光刻机来制作PSS外，现在越来越多的企业也需要应用光刻机做细电极，通过提高电极分辨率来提高芯片的发光量。不少国内LED芯片制造企业都在使用国外淘汰的二手机设备制作PSS，用国外进口的设备做电极，无法找到一台既能够做PSS，又能做电极的光刻机。SSB300系列光刻机针对LED芯片制造的这些问题进行专门设计，可实现PSS和电极两项工艺同时兼备，已在客户实际产线得到了应用，效果良好。目前，这种光刻机的市场需求量较大，尤其是今年增长势头迅猛。”

一心做光刻机：携四大系列产品深耕市场

据了解，SMEE主要致力于量产型IC制造、先进封装、3D-TSV、LED、MEMS、OLED-TFT、Power Devices等制造领域的投影光刻机系列产品的研发、生产、销售与服务。本次推出的SSB300/10A投影光刻机已在客户产线上实现量产导入。

经过过去十多年努力，SMEE已形成四大系列光刻机产品。应用于超大规模集成电路量产制造的600系列扫描光刻机，应用于先进封装和微纳制造的500系列步进光刻机，面向AM-OLED TFT光刻制造工艺的200系列投影光刻机，以及此次展会展示的面向亚微米2-6英寸晶圆的光刻市场需求的300系列投影光刻机。300系列光刻机支持亚微米节点条件下的各种半导体光刻制程，特别包括图形化蓝宝石衬底生产工艺、LED芯片电极曝光、MEMS和Power Devices生产工艺，具有广泛的市场前景。

目前，在先进封装光刻机市场领域，SMEE在大陆市场的占有率高达90%以上，几乎囊括了所有国内知名封装企业。对于LED领域，SMEE在2013年推出国内首台LED投影光刻机，在客户方逐渐获得了认可，拥有了实际上线量产应用，现已在有两台设备分别在安徽和广东装机使用。

“前段时间公司业务主要集中在国内PSS方面厂商，接下来重心将转移到做LED芯片电极厂商。今年我们将进一步拓展国内LED市场，同时在台湾市场方面也将有大动作，目前正在和几家客户接触，预计今年将会有几台设备成功交付厂商。”李志丹说

一路当先：源于光刻机行业门槛高

SMEE成立于2002年，并一直专注于多领域的光刻机研发，但涉足LED行业却是在2013年。已经走过近十年的LED产业，为何国内目前只有SMEE一家在做LED光刻机呢?

李志丹告诉记者，“一个行业容易被复制就说明行业门槛较低。LED光刻机对企业的资金和技术门槛要求较高，设备涉及的光学、机械、运动控制、光电精密测量等都是公司的核心技术，并且基本都是行业最尖端的技术。所以说，到目前为止SMEE仍是国内唯一一家量产型LED步进投影光刻机的企业。”

至于为何选择在近年涉足LED领域，李志丹说，因为LED光刻机设备相比封装设备有其特殊需求;业内很多企业已经购买国外淘汰的低价二手机，进而倒逼新设备研发的成本控制要求很高。

但经过近几年的市场调查发现，国外二手设备不能完全解决LED芯片制造企业问题。并且，随着LED产业规模的不断扩大，产业整体趋势保持向上发展，所以公司才决定涉足LED行业，而且通过创新技术为客户解决了二手设备难以解决的难题，获得了客户的认可。并且，现在市场和客户对产品的要求越来越严格，国外二手设备已经不能满足要求，所以越来越多的厂商会选择新机台。

一机多用：帮助LED芯片企业解决困扰

据了解，SSB300步进投影光刻机主要应用于LED行业前端PSS和电极制造环节。

在PSS环节，SMEE光刻机主要解决了困扰企业最主要的两个问题：一是解决了晶片表面形貌差的问题。李志丹告诉记者，由于国外二手机的焦深较差，不能曝出较大且完整图形，势必会影响外延晶片发光的均匀性，并最终导致芯片良率下降。另一个是提高了LED芯片拼接精度。李志丹说，国外二手光刻机运动台的定位精度只能达到500-600纳米，这样势必会导致在LED芯片拼接时出现劣品。而拥有核心技术的SMEE光刻机高精度运动台，定位精度可达到50-60纳米，可以完美地完成LED芯片拼接任务。

在LED芯片电极方面，SMEE光刻机设备能做到不浪费芯片。而国外二手机因为标记的设计问题，在制造过程中会对芯片造成一些浪费，从而对LED芯片制造企业带来成本压力。另外，SMEE光刻机还提高了做电极时套刻的精度。SMEE可以说是做到了行业内最高精度，这主要得益于其设备高精度的运动台，在套刻时精度可以达到200纳米以下，国外厂商设备基本上与之有一个微米的精度差距。“对于LED芯片制造企业来说，SMEE光刻机可以应付两台国外设备能力，可以在保证产能前提下，为企业节省成本投入，这也是众多企业选择SMEE光刻机的原因之一。”李志丹说。

一流服务：愿与客户共同成长

对于价格昂贵的高科技设备，客户在考虑选择购买时，不只关注其设备品质的优良，更加看重企业在售后服务中的表现。SMEE在不但从品质上让客户放心，在售后服务环节更做到了让客户满意。[!--empirenews.page--]

李志丹告诉记者，SMEE在交付设备时，会跟客户签订协议，为客户提供专业培训，并派遣驻场工程师，进行现场指导操作。

除了提供专业技术人员外，SMEE针对标准参数复杂的设备，精心设计了简单易懂的操作界面，降低了对技术人员的要求，为客户节省了人员成本开支。同时，光刻机制造的产品可以返工，很大程度地保证了产品的良率，为客户最大限度地降低了成本。

李志丹说，半导体生产是设备与工艺结合非常密切的行业，我们不能孤立地去看待一个问题。因此，SMEE始终秉承与客户一起成长的理念，用心打造国际一流的售后服务团队，愿意与客户一起探讨从设备到工艺上的技术改进，帮助客户提高工艺水平和产品质量。