上海微电子展出SMEE 300系列光刻机

此次，将展出SSB300系列步进投影光刻机，该系列机台适用于2～6英寸基底LED的PSS和电极的光刻工艺。可以应对大翘曲蓝宝石基底的曝光，能够实现2～6英寸基底的自动切换，能够在生产中即时监测基底面型，保证客户在使用过程中不再受吸盘污染的困扰。

上海微电子SSB300/10A步进投影光刻机，适用于2-6英寸基底LED的PSS和电极的光刻工艺。

采用高性能缩减式物镜确保亚微米解析度和高曝光均匀性、精密特制运动台系统实现高精度的图形拼接与精确的套刻。具有低使用成本、高曝光均匀性、高产能等特点，可满足LED生产线的各种使用要求。除此之外，该系列机台还能够适应矽和SiC等多种基底的曝光、可选背面对准配置，将机台的应用扩展至MEMS领域。

上海微电子装备有限公司成立于2002年，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、3D-TSV、TFT-OLED、LED、Power Devices等制造领域。上海微电子装备有限公司致力于以极致服务、创造高阶产品、创造客户卓越价值，全方位为顾客提供优质产品和技术服务。

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目前已建立了一整套与高科技企业相适应的智慧财产权管理体系与机制，先后被评为「上海市专利工作和智慧财产权示范企业」、「全国企事业智慧财产权示范创建单位」。

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