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[导读]21ic讯 美国国家仪器公司(National Instruments, 简称 NI)近日发布了NI NI PXIe-5632 VNA,它经进一步优化,可帮助工程师满足日益复杂的射频测试要求,而其成本、尺寸和使用所需时间仅是传统堆叠式解决方案的极小一

21ic讯 美国国家仪器公司(National Instruments, 简称 NI)近日发布了NI NI PXIe-5632 VNA,它经进一步优化,可帮助工程师满足日益复杂的射频测试要求,而其成本、尺寸和使用所需时间仅是传统堆叠式解决方案的极小一部分。 新的PXIe VNA基于创新型的双源架构,频率范围为300 kHz至8.5 GHz,拥有独立调整的源代码和源接入循环,可适用于众多不同的测量应用。

“NI在射频和微波仪器上持续大力投入,将PXI的应用领域扩大至高端应用。”NI射频研究和开发副总裁Jin Bains表示, “NI PXIe-5632矢量网络分析仪功能丰富,可显着降低网络测量成本,尤其是针对那些需要高度精确、快速和小封装测量的大批量自动化测试的应用。”

产品特征

· 双端口,3槽PXI Express矢量网络分析仪频率范围为300 kHz至8.5 GHz 。

· 功率范围较宽,为-30dBm到+15 dBm,调节步长为0.01dB,用于测量有源设备的压缩和S-参数。

· 带有源接入循环的双源架构,可实现脉冲S参数测量和扩展源功率范围。

· 频偏功能使用独立调整的源代码,实现对频率转换器件和热S-参数的测量。

通过NI LabVIEW、ANSI C和.NET等行业领先的编程接口,可简化编程并加快测试开发速度,同时保证射频测量质量。

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