美国芯片法案出台，ASML警告限制向中国销售设备，会扰乱全球供应链

美国最近的芯片法案事件闹得沸沸扬扬，欧洲顶级芯片设备供应商ASML周三警告称，如果美国迫使该公司停止向中国出售其主流设备，全球半导体供应链将面临中断。

ASML本季度最主要的营收来自中国台湾，紧随其后的是韩国，而中国大陆则近居第三。对比第一季度，ASML的最大客户来源是中国大陆。从出货的光刻系统可以看到，中间最大的诱因可能是受EUV光刻机订单的影响。如上图琐事，在一季度只有3个EUV设备发货，但到了二季度，发货了12台EUV光刻机。考虑到价格因素，我们能够理解当中的变化。上图的营收贡献也说明了同样的趋势。在一季度，最大营收贡献来自ArFi，EUV光刻机仅占26%。但进入二季度，营收贡献直追50%。

荷兰政府已确认美国官员正在寻求扩大对向亚洲国家出售此类系统的现有禁令，但尚未同意任何额外的限制。Wennink今年早些时候表示，ASML 反对提议的禁令，因为 DUV 光刻设备已经是一项成熟的技术。

ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如英特尔(Intel)、三星(Samsung)、海力士(Hynix)、台积电(TSMC)、中芯国际(SMIC)等。

ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列现已停产;AT系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列，为ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而NXT系列则是主推的高端机型，全部为沉浸式。

已经商用的最先进机型是Twinscan NXT 1950i，属于沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路。ASML正在加紧研制基于极紫外(EUV)光源的新型光刻机，型号定为NXE系列。如果量产成功，将成为划时代的产品，有望将关键尺寸缩小至10nm以下，并且可以显著提高集成电路质量。

芯片紧缺让台积电，三星等厂商订单大增，而ASML作为光刻机供应商，也跟着收益。今年第一季度ASML的新增订单突破70亿欧元，第二季度的新增订单为85亿欧元。不过芯片市场的需求已经发生转变，从供不应求变成产能过剩。ASML担心客户会因此砍单，果然，ASML已经下调了2022年的营收预期，从增长20%到增长10%。

可是让ASML没有想到的是，芯片需求“突变”，这段时间业内不断传来芯片需求下滑的消息。台积电直言有部分客户会在下半年调整库存。行业分析人士也指出，芯片产能短缺从今年底开始，会分阶段缓解。

一旦需求下滑，那么台积电，三星等制造商就会降低芯片产能。产能降低以后，对采购光刻机的需求也就那么大了。

之前都在抢着采购ASML的EUV光刻机，但ASML似乎已经收到了客户砍单的通知消息。因为ASML将全年收入增长从预期增长20%，降低到了10%，毛利率也下调至49%-50%。

截至今日，荷兰官方都尚未同意美国禁止向华出售光刻设备的要求。

先不论中国在全球半导体产业链中至关重要的地位，单就对于荷兰光刻机巨头ASML而言，该公司都不可能理会美国的施压，因为中国市场对于该公司而言十分重要。

中国长期以来都是ASML的第三大市场，2022年的第一季度，中国给ASML增加了34%的收入。除此之外，中国2021年在半导体行业的支出为296.2亿美元，已经连续两年成为世界半导体设备的最大买家。同时，因为半导体产业是全球共同协作的，中国企业对光刻设备的需求又逐渐扩大，ASML自然无法忽视中国市场的重要性，与中国企业进行大量合作。中国始终石块巨大的蛋糕，ASML不愿意放弃也是非常正常的。