光刻胶，我国半导体之殇

芯片对我们国家的发展具有很重要的意义，但是高精端芯片的发展离不开光刻机，现如今高端光刻机基本被外国所垄断。而光刻胶则是光刻机研发的重要材料，它是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。

光刻胶特性

1、储存时间短保质期短暂，有效期仅有 90 天;

2、粘附性，光刻胶的粘附性必须经受住后续工艺(刻蚀、离子注入等);

3、抗蚀性，耐热稳定性、抗刻蚀能力和抗离子轰击能力;

4、表面张力，光刻胶应该具有比较小的表面张力，使光刻胶具有良好的流动性和覆盖。

光刻胶发展现状

按照下游应用，光刻胶可分为半导体用光刻胶、LCD用光刻胶、PCB用光刻胶等，其技术壁垒依次降低。相应地，PCB光刻胶是目前国产替代进度最快的，LCD光刻胶替代进度相对较快，半导体光刻胶目前国产技术较国外先进技术差距最大。

2019年全球光刻胶市场规模预计近90亿美元，自2010年至今CAGR约5.4%，预计未来3年仍以年均5%的速度增长，预计至2022年全球光刻胶市场规模将超过100亿美元。

2011-2018年中国光刻胶行业需求量情况(万吨)

全球半导体光刻胶分地区市场份额

日本、欧美的专业公司垄断，其中，日本的企业占据 80%的全球市场。光刻胶主要企业包括日本的 TOK、JSR、富士、信越化学和住友化学，美国的陶氏化学、欧洲的 AZEM 和韩国的东进世美肯等，而国内在高端光刻胶及配套关键材料产品方面一直处于空白状态。

1、全球PCB光刻胶主要生产企业

PCB光刻胶，技术含量较低。全球PCB光刻胶市场规模在20亿美元左右，中国市场规模占比达50%以上。随着PCB光刻胶外企东移和内资企业的不断发展，中国已成为全球最大的PCB光刻胶生产基地。

2、LCD光刻胶的组成成分

LCD光刻胶的全球供应集中在日本、韩国、中国台湾等地区，海外企业市占率超过90%。彩色滤光片所需的高分子颜料和颜料的分散技术主要集中在Ciba等日本颜料厂商手中，因此彩色光刻胶和黑色光刻胶的核心技术基本被日本和韩国企业垄断。

光刻胶不止应用于芯片，在高端面板、模拟半导体、发光二极管、光电子器件以及光子器件上应用广泛，现在我们需要的高端光刻胶基本是从国外进口，这不仅会影响我国光刻机的研制，更会影响其他相关产业的发展。但是随着中国经济与科技的快速发展，自主研发是趋势所向，我们需要脚踏实地的一个个将诸多难关攻破，才有可能研制出属于中国人的光刻胶。