[导读]台积电昨(7)日宣布针对65奈米、40奈米及28奈米制程,推出已统合且可互操作的多项电子设计自动化(EDA)技术档案。这些与设计相关的技术档案套装,包括可互通的制程设计套件(iPDK)、制程设计规则检查(iDRC)、集
台积电昨(7)日宣布针对65奈米、40奈米及28奈米制程,推出已统合且可互操作的多项电子设计自动化(EDA)技术档案。这些与设计相关的技术档案套装,包括可互通的制程设计套件(iPDK)、制程设计规则检查(iDRC)、集成电路布局与电路图对比(iLVS)、及制程电容电阻抽取模块(iRCX)等。
先进半导体制造技术的制程与设计规则相对复杂,且需要更仔细且精准的描述,才能使得芯片设计作到正确的电路布局与仿真,并在布局完成后有能做好验证与分析。
台积电结合了主要的EDA生态系统伙伴,一同定义与发展符合台积电制程需求的一致架构及可互通之格式,这些伙伴均是「开放创新平台」互通项目的成员,不仅在设计软件上支持新格式,也验证实际芯片产出的准确性,而这项验证程序可去除数据的不一致,减少软件的验证时间并增加设计的准确性。
台积电与明导(Mentor)、新思科技(Synopsys)等共同开发第一个40奈米iDRC与iLVS,同时也与质量保证暨验证伙伴捷码科技(Magma)与益华计算机(Cadence)等一同进行验证。此外,台积电也与系统开发伙伴、新思科技、Ciranova公司等共同开发第一个 65奈米iPDK,并与质量保证暨验证伙伴捷码科技与思源科技一同进行验证。
台积电表示,上述两项可互通的技术档案,自去年7月以来均陆续提供予客户验证,经过广泛的测试之后,65奈米iPDK、40奈米 iPDK、及65奈米与40奈米iDRC及iLVS等,均已准备好以供量产设计。
台积电完整的65奈米iRCX技术档案,在2009年初已在量产设计中使用,目前正把40奈米与28奈米的iRCX加入档案。
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