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[导读]美国赛灵思(Xilinx)公布了28nm工艺FPGA中采用的核心技术。该公司计划在28nm工艺FPGA方面,将总功耗较上代产品削减50%,同时将最大集成度增至原来的2倍。为此,该公司组合采用了以下三项技术。第一,基于high-k栅极

美国赛灵思(Xilinx)公布了28nm工艺FPGA中采用的核心技术。该公司计划在28nm工艺FPGA方面,将总功耗较上代产品削减50%,同时将最大集成度增至原来的2倍。为此,该公司组合采用了以下三项技术。第一,基于high-k栅极绝缘膜和金属栅极的低功耗工艺。与采用28nm级高性能工艺时相比,可削减待机时的功耗。第二,为了削减工作时的功耗,采用复合氧化(Multigate Oxide)技术等。第三,通过采用时钟门控(Clock Gating)和第五代重构(Partial Reconfiguration)技术,将功耗进一步削减20%。

通过导入上述技术,“实现了全球首款超高端FPGA。由此能够取代在有线通信领域中使用的ASIC”(赛灵思产品开发副总裁Steve Douglass)。例如,通过单芯片28nm工艺FPGA实现具有1Tbit/秒处理能力的高端交换结构(Switch Fabric)和400G OTN线卡等。

赛灵思在28nm工艺FPGA方面统一了此前按照高端和低价格划分的架构。在90nm工艺“Virtex-4”以后,高端FPGA中采用的ASMBL架构将扩展到低价位产品中。目标是由此减少用户对产品开发和市场开拓投入的投资。

赛灵思还公布了在28nm工艺FPGA中委托的硅代工企业。具体为台湾台积电(TSMC)和韩国三星电子(Samsung Electronics)。其中,台积电是与赛灵思相互竞争的美国阿尔特拉(Altera)的主要代工企业。

赛灵思此前将采用40nm工艺制造技术的高端FPGA“Virtex-6”的生产外包给了台湾联华电子(UMC)。采用45nm工艺制造技术的低价位FPGA“Spartan-6”,则生产外包给了三星电子。此次的28nm工艺,虽然台积电取代了联华电子,不过赛灵思表示“联华电子今后在65nm及40nm工艺FPGA的制造方面,仍将是我们重要的合作伙伴”。(记者:大石 基之)

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