上海微电子：提升中国光刻设备高端制造水平

上海微电子装备有限公司成立于2002年，公司主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、3D-TSV、OLED-TFT、LED、Power Devices等制造领域。这是IC制造领域的源头所在， 属于绝对的高端制造业，这在某种程度上代表了IC产业的发展水平。近日，上海微电子参加了第84届中国电子展，展示了光刻机等产品。

上海微电子展台

上海微电子展台工程师介绍说，半导体照明产业属于新兴行业，在高亮LED发展起来之后应用领域大大扩展。SMEE专门推出面向LED PSS制造和电极制造的SSB300系列步进投影光刻机，具有高分辨率和焦深方面的明显优势，凭借性能优势及长期运营成本优势，我们预期SSB300未来能够替代目前LED芯片制造中的二手光刻机，帮助客户在提高LED芯片光效以及降低生产成本。目前，该款产品的市场占有率为20%，至2016年有望提升至50%。

300系列光刻机面向亚微米2-6英寸晶圆的光刻市场需求，支持亚微米节点条件下的各种半导体光刻制程，特别包括LED图形化蓝宝石衬底生产工艺、LED芯片电极曝光、MEMS和Power Devices生产工艺。

其中，SSB300/10A步进投影光刻机适用于2-6英寸基底LED的PSS和电极的光刻工艺。该设备具有低使用成本、高曝光均匀性、大焦深、高产能等特点，可满足LED生产线的各种使用要求。

SSB300/10M 步进投影光刻机用于2-6英寸基底MEMS和Power Devices的光刻，该设备具有低使用成本、高曝光均匀性、大焦深、高产能等特点，可满足科研与生产的多种光刻需求。

记者了解到，光刻机研发最大的挑战是其精密性和复杂性。举例来说，SMEE光刻机内部某些结构装配误差要小于10微米，测量及定位精度达到0.1微米，这足以可见其精密程度。

上海微电子展台工程师表示，专利对于上海微电子这样的高科技IC设备制造企业非常重要。上海微电子拥有涉及光刻设备整机、光刻设备部件、光刻工艺、光刻材料、半导体器件等多技术领域的专利，申请基本覆盖了SMEE产品的主要销售地域。上海微电子的光刻机产品拥有多种软硬件模块，还可以根据客户需求进行定制化生产。