半导体光刻胶库存告急！光刻胶库存跌至“马奇诺防线”以下

据韩国科技媒体 ETnews 报道，半导体光刻胶的供需进入紧急状态，库存量降到了“马奇诺防线”——3 个月水平以下。这是因为以成熟工艺为主的需求剧增，但是供给却没有跟上。同时这也是未能摆脱依赖日本供应商的结果。报道称，一些代工厂的光刻胶库存已减少到两个月的供应量，低于通常的三个月供应库存。如果光刻胶供应危机持续下去，市场担心由于库存不足，半导体生产将不可避免地中断。

光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶(包括紫外正、负性光刻胶)、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。

机构指出，目前国内半导体光刻胶主要以低端产品为主，技术水平与国外差距甚远。但在多项国家政策支持和大基金注资的背景下，今后本土替代将成为长期趋势。目前已有少数企业已开始崭露头角，实现从0到1的突破。我国南大光电、上海新阳、晶瑞股份、北京科华等光刻胶企业已在多个技术领域取得突破，并积极推进客户验证、产线扩大等深度产业化布局举措，国产化份额未来有望逐步扩大。

国风新材(000859.SZ)4月21日在投资者互动平台表示，公司在研光刻胶为光敏聚酰亚胺(PSPI)光刻胶，相比于传统光刻胶，PSPI光刻胶本身既起光刻作用又是介电材料，可大大缩短工序，提高生产效率。PSPI光刻胶广泛应用于半导体封装等。新站高新区在建五条聚酰亚胺薄膜生产线，其中三条已签订供货合同，项目建设按计划稳步推进。感谢建议，公司将继续支持新能源汽车配件业务开拓市场，做优做强。

彤程新材料集团股份有限公司(简称：彤程新材，证券代码603650)是全球领先的新材料综合服务商，公司位于中国(上海)自由贸易试验区，在中国拥有三家精益制造工厂和两家研发中心，业务范围覆盖全球40多个国家和地区。彤程新材是AEPW(The Alliance to End Plastic Waste)组织的成员之一，也是第二家加入该组织的中国企业。公司以橡胶助剂代理业务起家，在公司不断自主研发得推动下成为国内橡胶助剂生产和销售的龙头企业。彤程新材前身为1999年成立的彤程化工，在发展初期主要从事轮胎橡胶助剂产品在国内的商贸代理。2005年起，公司开始构建研发及技术服务团队，在北京和上海建立研发中心，并在江苏和上海等地建设起国际化标准的生产基地，打破了国外企业对高端轮胎用酚醛树脂产品的垄断。2016 年，公司进行了股份制改革，更名为彤程新材料集团股份有限公司。2018 年，公司于上交所挂牌上市，并于同年收购佳宝化工(后更名为彤程精细)90.9%的股权。2019年，公司通过增资子公司上海彤中，间接收购中策橡胶10.1647%的股权，实现橡胶助剂业务向下游的成功扩展。同时，公司积极开拓酚醛树脂的高端应用，针对电子材料领域，在光刻胶、环氧塑封料、覆铜板均有布局。2020年，公司战略收购北京科华、北旭电子，其中，科华作为唯一被SEMI列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司，也是国内唯一可以批量供应KrF光刻胶给本土8寸和12寸晶圆厂客户的厂商。