ST与CMP合作协助产、学、研机构导入28奈米制程

双方在上一代 CMOS 合作专案的成功，促使了这次推出的28奈米 CMOS制程服务；双方于2008年、2006年、2004年及2003年分别推出 45奈米、65奈米、90奈米及130奈米制程服务。此外，CMP并为意法半导体提供65奈米和130奈米绝缘层上覆矽(Silicon-On-Insulator，SOI)以及130奈米 SiGe 制程服务。

举例来说，170所大专院校和企业已可使用意法半导体的90奈米 CMOS制程设计规则和工具，200余所大专院校和企业(60%欧洲客户、40%为美洲和亚洲客户)已可使用 65奈米bulk和 SOI CMOS制程设计规则和工具。目前，45/40奈米 CMOS制程服务仍在开发阶段。

CMP总监Bernard Courtois表示：“客户对使用这些制程设计晶片非常感兴趣，大约有300项专案采用90奈米技术(皆已于2009年完成)、200项专案采用65奈米技术。此外，采用65奈米 SOI技术的专案更达60项，多所欧洲、美国及亚洲的知名大专院校已因CMP/意法半导体的服务而受益。”

CMP多专案晶圆服务(multi-project wafer service)能让设计单位机构获得从数十片至几千片不等的先进IC。最小计价面积为1mm2， 28奈米 CMOS制程服务价格固定在1万5,000欧元/mm2。

意法半导体前端技术与制造部大专院校及对外关系总监Patrick Cogez表示：“这项令人振奋的专案代表着我们对教育和研究领域的重视与贡献。使用最先进的技术对大专院校生和研究人员而言是非常重要的，透过与CMP合作，二十年来意法半导体始终?学术领域提供最先进的技术。确保大专院校能够使用我们最先进的技术，并吸引优秀的青年工程人员加入意法半导体，这也是我们身为技术领导者对社会的长期承诺之一。”