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[导读]在“SEMICON Japan 2010”(2010年12月1~3日,幕张MESSE会展中心)上,SOKUDO公开了可将该公司涂布/显像装置“SOKUDO DUO”的吞吐量提高至350张/小时以上(与曝光装置连接时)的技术。预定2011年上市配备这种技术的

在“SEMICON Japan 2010”(2010年12月1~3日,幕张MESSE会展中心)上,SOKUDO公开了可将该公司涂布/显像装置“SOKUDO DUO”的吞吐量提高至350张/小时以上(与曝光装置连接时)的技术。预定2011年上市配备这种技术的装置。

SOKUDO的涂布/显像装置是一个可在装置内的上下两部分进行晶圆处理的系统,高吞吐量是其主要特点。此次,直接沿用这种基本结构,通过强化各部分的处理能力,使吞吐量得到了进一步的提高。在吞吐量方面,涂布/显像装置本身由从前的300张/小时提高至450张/小时,与曝光装置连接时、由从前的250张/小时提高至350张/小时。SOKUDO计划2011年将曝光装置的吞吐量提高至200张/小时,此次公开的技术也可用于提高曝光装置的吞吐量。(记者:长广 恭明)


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