Mentor 2006 China EDA Tech Forum 成功举行
时间:2006-08-29 09:22:34
[导读]当今电路板与半导体元件设计变得更加复杂,并随着深亚微米工艺技术在系统单芯片设计深入应用,要把一个具有创意的想法转换成市场上的产品,并同时具有低能耗、高可靠性和更短的设计周期,成为设计师面临的巨大难题。
当今电路板与半导体元件设计变得更加复杂,并随着深亚微米工艺技术在系统单芯片设计深入应用,要把一个具有创意的想法转换成市场上的产品,并同时具有低能耗、高可靠性和更短的设计周期,成为设计师面临的巨大难题。
为了克服这些日益复杂的设计要求,使企业在IC设计领域处于不败之地,寻求成熟完善的电子设计自动化(EDA)解决方案将成为IC企业高速发展的当务之急。
MentorGraphics于2006年8月17日在北京五洲皇冠假日酒店,8月21日在上海香格里拉大酒店成功举办了年度技术论坛-MentorGraphicsEDATechForum2006。共有来自IC设计领域近700位客户参加了论坛,同时,MentorGraphics的合作伙伴PDFSolutions,Lattice,TheMathworks,Calypto,Sun,ARM,Springsoft等业界知名企业也参加了论坛,并发表了精彩演讲和演示。
本次EDA论坛向与会者呈现了EDA领域最先进的技术和解决方案,展示了MentorGraphics更完整,功能更齐全的解决方案,其中包括-SystemDesign,DesignforManufacture,FunctionalVerification,ElectronicSystemLevel。同时结合业界其他的技术领先者的最新技术和成功案例,让与会者在最短的时间内,把握EDA领域的最新技术趋势,更好地克服IC设计过程中的多样需求,实现产品及早上市,创造最佳利润。
Mentor2006ChinaEDATechForum成功落下帷幕。本次论坛的成功举办标志着MentorGraphics在中国市场的成功定位以及对未来市场发展的坚定信心。同时,也标志着MentorGraphics在EDA领域的领导地位,MentorGraphics将会用最先进的技术和解决方案以及完善售后服务,与客户分享更多的成功。
为了克服这些日益复杂的设计要求,使企业在IC设计领域处于不败之地,寻求成熟完善的电子设计自动化(EDA)解决方案将成为IC企业高速发展的当务之急。
MentorGraphics于2006年8月17日在北京五洲皇冠假日酒店,8月21日在上海香格里拉大酒店成功举办了年度技术论坛-MentorGraphicsEDATechForum2006。共有来自IC设计领域近700位客户参加了论坛,同时,MentorGraphics的合作伙伴PDFSolutions,Lattice,TheMathworks,Calypto,Sun,ARM,Springsoft等业界知名企业也参加了论坛,并发表了精彩演讲和演示。
本次EDA论坛向与会者呈现了EDA领域最先进的技术和解决方案,展示了MentorGraphics更完整,功能更齐全的解决方案,其中包括-SystemDesign,DesignforManufacture,FunctionalVerification,ElectronicSystemLevel。同时结合业界其他的技术领先者的最新技术和成功案例,让与会者在最短的时间内,把握EDA领域的最新技术趋势,更好地克服IC设计过程中的多样需求,实现产品及早上市,创造最佳利润。
Mentor2006ChinaEDATechForum成功落下帷幕。本次论坛的成功举办标志着MentorGraphics在中国市场的成功定位以及对未来市场发展的坚定信心。同时,也标志着MentorGraphics在EDA领域的领导地位,MentorGraphics将会用最先进的技术和解决方案以及完善售后服务,与客户分享更多的成功。





