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[导读]德国Carl Zeiss SMT AG已向半导体设备商ASML出货首台EUV光学系统。该公司已使EUV光学系统达到了生产要求。光学系统是EUV设备的核心模块,首台EUV设备预计将在2010年出货。几周前,美国公司Cymer完成了EUV光源的开发,

德国Carl Zeiss SMT AG已向半导体设备商ASML出货首台EUV光学系统。该公司已使EUV光学系统达到了生产要求。

光学系统是EUV设备的核心模块,首台EUV设备预计将在2010年出货。几周前,美国公司Cymer完成了EUV光源的开发,EUV光源是EUV光刻设备另一个关键模块。该技术将使芯片制造商进一步缩小芯片的特征尺寸,提高生产效率。

据Carl Zeiss 介绍,目前出货的光学系统已经研发了约15年。

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