提告离职研发主管 友达疑技术外流

面板大厂友达光电针对新竹地方法院检察署及法务部调查局侦办之离职研发主管泄漏营业秘密案件，提出说明。该公司表示，这名离职主管之行为，不但侵害了产业重要研发成果，更严重影响产业之公平竞争。因此友达已向法务部调查局及新竹地方法院检察署提出告诉，经检调单位积极侦办，友达并将全力配合调查、提供一切必要协助。

友达进一步说明，友达该名高阶研发主管疑盗用及外泄本公司营业秘密，并于离职后，旋即提供服务予竞争厂商，任职条件以提供友达之AMOLED、影像品质最佳化（低色偏）产品技术、高穿透率产品技术、高对比度/高画质产品技术、四道光罩（4 MASK）制造技术等面板先进关键技术，协助该竞争厂商发展前述先进关键技术与量产为对价，获取高额报酬。

友达强调，该公司感谢司法检调单位对保护产业营业秘密的重视，以及遏止不法窃取营业秘密行为之积极执法决心，相信在检调单位、司法机关、行政机关及民间企业的通力合作下，必能有效严惩不法。未来公司将持续积极保护智慧财产权，以维护股东权益。