宏力半导体和SYNOPSYS开发参考设计流程

    Synopsys公司与位于中国上海的宏力半导体制造有限公司（Grace）日前宣布，Synopsys的专业服务部和宏力已经联合开发出了一个用于宏力的0.18微米的参考设计流程。这个RTL-to-GDSII的设计流程建立在经Synopsys验证的Galaxy™设计和Discovery™验证平台的基础之上。最终用户可以通过下载预先验证的参考设计流程，迅速开始集成电路(IC)的设计和验证，用户相信使用这个设计流程能够迅速达到预期的最优结果。该参考设计流程将很快由宏力推出。

    宏力半导体研究发展单位资深处长方浩博士表示：“在创建宏力首个参考设计流程时，我们选择了Synopsys作为电子设计自动化(EDA)的合作伙伴，是因为这家公司拥有良好的市场声誉以及经过验证的设计解决方案。这种合作能为宏力及我们的客户带来完全集成的、经芯片生产验证的设计和验证流程，从而缩短复杂的0.18微米产品设计的开发时间。我们希望与Synopsys保持长期的合作，以确保客户在宏力生产各种先进的集成电路时，得到他们所需要的相关支持。”

    这一流程得到了Synopsys的Galaxy设计平台的支持。Galaxy设计平台包括Design Compiler®综合工具、Jupiter-XT™设计规划工具、Physical Compiler®和Astro™物理综合解决方案、DFT Compiler™测试工具、PrimeTime® 静态时序分析解决方案、Star-RCXT™析取工具和Hercules™物理验证解决方案。针对设计验证，流程还采用了来自DiscoveryTM验证平台的VCS® RTL验证解决方案和Formality®等同性核查工具。参考设计流程由经验丰富的为设计先进的ASIC建立和使用设计流程的Synopsys Professional Services来实现的。 Galaxy设计和Discovery 验证流程针对宏力的流程技术进行了优化，将帮助宏力的客户缩短设计时间、降低集成成本，并将高级而复杂的IC设计所内含的风险降至最低。

    中国科学院EDA中心主任叶甜春先生说道：“宏力的0.18微米参考设计流程的完成，对科研成果向产品的转化起到积极的作用。中国科学院EDA中心将在其设计中采用此参考设计流程并提供长期的技术支持。”

    作为中国的顶尖代工厂， 宏力通过拥有先进技术水平的制造厂向全球客户提供综合全面的制造工艺。宏力目前支持0.25微米、0.22微米、0.18微米和0.15微米技术，并将很快支持0.13微米。