集成电路布图设计登记：中国企业占优

2008年，受到全球半导体市场衰退的影响，中国集成电路产业由前几年的较快增长转变为下滑。尽管中国以内需市场为主的集成电路设计业仍实现了一定增长，但严重依赖出口的芯片制造和封测行业下滑严重。市场的变化和利润的减少迫使企业不断创新，知识产权问题将变得更加重要。作为集成电路行业特殊的知识产权保护形式，集成电路布图设计登记应得到更多的关注。

    最近，中国半导体行业协会知识产权工作部和上海硅知识产权交易中心联合推出中国集成电路布图设计登记2008年度报告，本期刊登部分节选，供业界研究参考。

    本报告数据来源于上海硅知识产权交易中心依据国知局公告建立的集成电路布图设计登记数据库。

    集成电路布图设计登记数增长迅速2008年增长率达69.27%

    经检索，截止到2008年12月31日，中国集成电路布图设计登记共计2097件(包括国外的企业和个人在中国申请的布图设计登记)。图1为中国集成电路布图设计登记年度分布图。如图1所示，以公开年统计，2001年-2008年间我国集成电路布图设计登记的数量基本保持了较快上升的趋势，这与我国集成电路行业近年来的发展现状相吻合。

图1 中国集成电路布图设计登记年度分布图（单位：件）

    2008年，我国登记数量达到创纪录的606件，较上一年增长69.27%。这说明集成电路设计企业越来越多地利用布图设计专有权保护创新，积极申请布图设计登记。

    中国布图设计登记数量远超国外省市分布较为集中

    2001年-2008年，已公告的全国集成电路布图设计登记共计2097件。其中，中国大陆企业及个人的布图设计登记1714件(占总量的81.7%)，中国香港和中国台湾地区布图设计登记47件(占总量的2.2%，其中台湾43件，香港4件)，国外布图登记336件(占总量的16.0%，其中美国188件、日本126件、南非8件、韩国9件、法国2件、加拿大3件)。

    由此可见，其他国家在我国申请集成电路布图设计登记的较少，主要集中于美国和日本(这两个国家的登记数量占全部国外登记数量的93.45%)，但国外企业最近已经开始重视这方面的布局。

    图2为中国集成电路布图设计专有权省市排名图。如图2所示，国内集成电路布图设计专有权的分布主要集中在上海、江苏、北京、广东四省市。上述地区的集成电路布图设计登记的累计数量已达中国大陆各省市总量的80%，数量优势明显。上海的布图设计登记数量相对领先，这主要与上海集成电路产业链较全、设计企业相对聚集和政府政策引导有关。

图2 全国布图设计登记省市排名图（单位：件）

    布图设计专有权产品以MOS为主商用化程度较高

    图3为集成电路布图设计专有权产品的结构分布图。如图3所示，已经登记的集成电路布图设计登记所涉及的产品，按结构分类主要包括Optical-IC(光电集成电路)、MOS(金属-氧化物-半导体)、Bipolar(双极)、Bi-MOS(双极-金属-氧化物-半导体)等。其中MOS类型所占比重最大，共计442件，约占总量的73%；其次为Bipolar，共计85件，约占总量的14%。

图3 集成电路布图设计专有权产品的结构分布图

    根据布图设计登记的商业利用日进行统计，可掌握集成电路布图设计的商业利用情况。截止到2008年12月31日，布图设计申请登记时，已投入商业利用的布图设计共计1374件，而申请登记时，还未投入商业利用的布图设计共计723件。在申请登记时，将近65%的布图设计已经投入商业利用，由上可知，集成电路布图设计的商业利用情况总体较好。

    国内企业保持优势有助于推进技术创新和产业发展

    表1为2008年中国大陆集成电路布图设计的主要权利人列表。如表1所示，根据2008年公开的布图设计登记的数量进行排名，企业登记多于科研院所，在前10名单位中，上海有4家，江苏有3家，而北京有2家。

    上海华虹NEC电子有限公司在2008年公开的布图设计登记数量共计24件，排名第一。但从总公开件数可知，该企业是近几年，尤其是2008年才开始大量申请布图设计登记。排名第二和第三的分别是上海贝岭股份有限公司和无锡华润矽科微电子有限公司。从总公开件数可知，上述两家企业的总公开件数都达到了70件以上。由此可知，上述两企业对布图设计的知识产权保护一直都很重视。

    综上所述，通过以上的对我国集成电路布图设计登记的统计和分析可知，布图设计登记总量保持逐年稳定增长的态势。在已登记的布图设计中，商业利用率较高。国内企业与国外企业相比，有较大优势，部分国内集成电路企业对布图设计登记给予了充分重视。

    集成电路布图设计保护制度是知识产权保护国际规则的重要组成部分。上海贝岭等公司利用布图设计登记维护企业利益的例子也说明，布图设计登记作为知识产权形式之一，在一定场合下作用不可忽视。

    与在专利申请方面国外企业在我国申请的数量超过国内企业的申请数量形成对比，在集成电路布图设计登记申请方面，国内企业的布图设计登记数量大大领先于国外企业的登记数量。国内外企业在对待专利保护和集成电路布图设计保护的巨大反差，可能与企业战略有关。但应当相信，国内集成电路企业继续保持集成电路布图设计方面的优势，必将有助于推进IC技术创新和产业发展。