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[导读]为了降低企业投入 MEMS 开发时面临 失效等挑战,宜特(iST)宣布成功建构出 MEMS G-Sensor 的标准失效分析流程。宜特指出,该流程已经被许多公司实际采用,在全台开发 MEMS G-sensor 的公司中,约有九成采用该流程解决

为了降低企业投入 MEMS 开发时面临 失效等挑战,宜特(iST)宣布成功建构出 MEMS G-Sensor 的标准失效分析流程。宜特指出,该流程已经被许多公司实际采用,在全台开发 MEMS G-sensor 的公司中,约有九成采用该流程解决失效问题。

iST独家研发的 MEMS G-Sensor 失效分析标准流程,已经通过全球电子元件检测失效分析技术研讨会-ISTFA的认可,并成为首家拥有 MEMS 研究团队的实验室。

iST观察发现,许多公司欲了解MEMS元件的失效状况时,由于对其结构的认知度、掌握度不够,因此以传统方式做开盖(De-cap)观察,容易造成元件污染。 此外,由于元件为悬浮结构,以外力移除时易产生毁损。在两造影响下易于造成元件污染和应力破坏,不但没有找出真因,反而制造更多失效盲点。

为了克服此问题,iST成功开发出 MEMS 无污染的 De-cap 技术,结合无应力的元件移除技术,以非破坏方式保留结构原貌,避开机械应力和污染产生的非真因失效。目前已帮助三十多家 MEMS 设计、制造与封装企业,对症下药地找出失效点并成功改善,抢攻市场先机。

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