全球首次:12 英寸氧化镓晶体长出"等径段",第四代半导体终于能切片了
炉盖升起来的时候,里面的东西看着像块烧焦的石头:通体黝黑,圆锥形,底部直径 305 毫米。这是氧化镓。
9 月 14 日,杭州镓仁半导体宣布,基于自研的 SCIENCE 系列 VB 法长晶设备,全球首次实现 12 英寸氧化镓晶体等径生长。消息在行业里传了一圈,标题都盯着"12 英寸"。但真正值钱的是另外两个字,等径。
一根晶锭,只有中间那一段能卖钱
晶体从籽晶长成晶锭,要过四道关:引晶、放肩、等径、收尾。
引晶是把籽晶和熔体接上;放肩是把直径从细颈一路撑到目标尺寸;撑到位之后进入等径阶段,直径锁死不再变化,晶体只是不断变长;最后收尾,慢慢收细。四段里,能送进切割机的只有等径段。两头的弧面全是待回收的料。
所以"长出 12 英寸"和"稳定长出 12 英寸的等径段"是两回事。等径段越厚,同一根晶锭切出的合格衬底片越多,摊到每一片的成本就越薄。
直径越大,这件事越难。12 英寸的熔体量和温度惯性都是 8 英寸的好几倍,直径只要漂移一点点,一整段等径就报废。镓仁的解法是自研长晶设备,温控精度做到 ±0.1 ℃,再配上"设备加工艺包"的一体化交付。目前这套设备已经卖给多家客户,拿过一个行业会议的"优秀市场表现奖"。
12 英寸还有一层现实的算计:主流硅基产线用的就是 12 英寸规格,氧化镓长到这个尺寸,下游可以直接借用现有设备试器件,不必为一种新材料重建整条线。
纪录牌,在杭州两家公司之间来回递
这里得说清楚一件事,免得被"全球首次"四个字带偏。
12 英寸氧化镓单晶本身,不是镓仁第一个做出来的。今年 3 月,同样在杭州的富加镓业宣布在国际上首次制备出 12 英寸氧化镓单晶,直径 305 毫米,刷新了当时的全球尺寸纪录。镓仁这次补的是下一道坎:把这个尺寸的晶体稳定锁在等径段。
一个比的是能长多大,一个比的是能长多稳。两块纪录牌,现在都挂在杭州。
(来源:富加镓业富加镓业 12 英寸氧化镓晶锭,圆锥状,底部直径 305 毫米)
两家走的路子不完全一样。富加镓业 2019 年落户富阳,董事长齐红基同时是杭州光学精密机械研究所所长。它的办法是在设计阶段引入数值模拟,去匹配氧化镓的生长规律,再自研装备把炉内温场和晶体运动控制到微米级。镓仁半导体 2022 年才成立,首席顾问是中科院院士杨德仁,领衔的是浙江大学硅材料国家重点实验室的张辉教授,主打自研铸造法,同时自研 VB 法长晶设备。
把时间轴拉长看,这条曲线陡得有点夸张。2023 年,日本 Novel Crystal 推出 6 英寸衬底产品,中国电科 46 所同年做出国内首颗 6 英寸。2025 年 3 月,镓仁做出全球首颗 8 英寸单晶。2026 年 1 月,富加的 6 英寸单晶及外延片生长线通过环保验收;3 月推出 12 英寸单晶,6 月把外延工艺也推到 12 英寸。9 月,镓仁补上等径。
从 2 英寸到 12 英寸,中间隔了四年。
便宜,才是这门材料真正的底牌
氧化镓被叫作第四代半导体,靠的是一串不太像半导体的数字。它的禁带宽度 4.8 到 4.9 eV,碳化硅 3.3,氮化镓 3.4。禁带越宽,材料越扛得住高压,所以氧化镓的理论击穿场强跑到 8 MV/cm,碳化硅 2.5,硅只有 0.3。功率器件圈子里习惯用巴利加优值去比较材料的理论上限,氧化镓算出来在 3400 附近,碳化硅约 340。
这些数字在论文里躺了十几年,真正把它往产业里推的是另一件事:它便宜。
碳化硅和氮化镓的衬底只能靠气相法长,两千摄氏度以上的密闭生长腔,周期长,耗材贵。氧化镓是极少数能在常压下用熔体法长大的宽禁带半导体,整埚熔体定向结晶就能成单晶,莫氏硬度约 6.5,跟硅接近,切片损耗比碳化硅小得多。
至于能便宜到什么程度,各方说法差得挺远。国内企业的口径是,氧化镓成本约为碳化硅的三分之一,击穿场强却是它的两倍以上。镓仁自己算得更细:那套铸造法把出片量做到传统工艺的 3 到 4 倍,单片成本降八成以上,6 英寸衬底的目标价压进 2000 元。日本一家做研磨设备的企业甚至认为,基板成本理论上能低到碳化硅的 1/50。
这件事跟普通人的距离,其实没有参数表看上去那么远。充电桩、光伏逆变器、电网里的高压模块,最贵的部件之一就是功率器件。衬底价格真要掉下来,最后传递到的是充电速度和电价。
这些数字目前都还是测算和口径,不是已经发生的成交价。
它离替代碳化硅,还有几道坎
先把结论摆出来:现在喊"碳化硅杀手",属于过度解读。氧化镓身上还有三处硬伤没解决。
热导率是它最出名的短板,β-Ga₂O₃ 只有 11 到 27 W/m·K,碳化硅约 490,差了一个数量级还多。器件工作时产生的热散不出去,就得靠封装和衬底键合来补,这会吃掉一部分成本和体积上的优势。
p 型掺杂是另一道坎,至今没有全球性的解法。做不出 p-n 结,双极型器件这条路线就走不通,所以氧化镓目前能落地的主要是肖特基二极管这类单极器件。
加工环节同样不轻松。氧化镓是单斜结构,(100) 和 (001) 面解理明显,又脆又容易劈。粗磨阶段就可能产生 40 微米级的亚表面损伤,切片、研磨、抛光的工艺窗口很窄。
器件端的进度要慢一些,但也不是没动静。基于国产外延片的氧化镓 MOSFET,击穿电压做到 9000 伏以上,刷新了该领域的世界纪录;深圳平湖实验室那款 Mg 掺杂光导开关更极端,耐压进入万伏级,关断时间小于 1 纳秒。中山大学和富加镓业合作的光电导开关,电压转换效率做到 98.9%。6 英寸外延片眼下正在器件流片,不再只是实验室里的样品。
我个人更留意的一点是,这些器件用的都是国产衬底和国产外延片。材料卡了这么多年,器件端能自己往下走,这一步比尺寸纪录本身更实在。
(来源:富加镓业6 英寸氧化镓功率 SBD 器件流片)
(来源:富加镓业,坩埚下降法(VB 法)晶体生产线)
市场的盘子还很小。2026 年国内氧化镓器件市场规模预计 3.07 亿元,同比涨 58.2%。增速好看,基数摆在那儿,离"产业爆发"还有距离。眼下跑得最顺的是通信电源和光模块供电,已经占掉下游四成多。光伏储能逆变器、工业电源要在后一档。新能源汽车和电网最慢,还在台架验证,车规级认证通常得走三到五年。
观点
这一轮氧化镓最容易犯的错,是把它当成碳化硅的替代品去理解。碳化硅这两年已经在 650 到 1200 伏的中低压市场跑出规模,成本压得很稳,氧化镓短期挤不进去。它真正的空间在 3000 伏以上:特高压电网、大型储能、轨道交通、大功率工业电源。今年 7 月,国家"十五五"规划纲要把"推动氧化镓、金刚石等超宽禁带半导体产业化发展"写了进去,政策端的确定性已经给足。
钱和产能其实已经在动了。镓仁今年 8 月完成数亿元 A 轮融资,方广资本和深创投联合领投,跟投名单里出现了中国中车;富加的万片级产线也在往前推。只是材料端做出突破,和产业端真正拿到订单之间,还隔着一整条链:外延、设计、制造、封装、测试。
(来源:富加镓业,氧化镓单晶与抛光衬底实物)
12 英寸这一关过了。下一关在器件厂的产线上,那才是把这块黑石头变成钱的地方。
本文基于 IT 之家 9 月 14 日报道、电子工程专辑、浙江大学硅材料国家重点实验室、都市快报、富加镓业与镓仁半导体官方发布、同花顺财经、乔治梅森大学与人工晶体学报材料数据等公开资料交叉验证整理。文中成本数据均为企业与供应链测算口径,不构成投资建议。





