当前位置:首页 > 消费电子 > 消费电子
[导读]三星和台积电已经开始接受5nm的订单,今年的风险试产和明年的批量生产。我们预计两家公司将在5纳米采用更多的EUV层,三星为12层,台积电为14层。

自从人类进入了互联网时代,芯片的地位就被拔升到一个全新的高度。无论是在哪个领域,通信也好、汽车也好,就连军事领域都离不开芯片的存在。可以这么说,芯片就是互联网行业的发展“基石”。地位很高,就跟我们人类的“大脑”一样。所以制造的难度也是可想而知,全世界能掌握制造核心技术的企业也只有寥寥几家。

对一整个互联网时代来说,这么重要的技术,却只是被掌握在一家公司的手中,是很危险的一件事。毕竟现在什么都离不开芯片,而一旦想要封锁一个国家的芯片技术,那么最直接的就是禁止ASML向这个被封锁的国家供货就可以了。这就是市场垄断这种很危险的行为,会被我们国家明令禁止的原因了。

三星和台积电已经开始接受5nm的订单,今年的风险试产和明年的批量生产。我们预计两家公司将在5纳米采用更多的EUV层,三星为12层,台积电为14层。

三星表示他们的5nm工艺密度比7nm提高了25%,性能提升10%或功耗降低20%。据我们所知,三星的7LPP和5LPE之间的差异是6轨单元高度和SDB。这导致密度提高1.33倍。

这与台积电宣布密度提高1.8倍,性能提升15%或功耗降低30%形成鲜明对比。我们最近看到另一位分析师声称三星和台积电将在5纳米具有相似的密度,考虑到这两家公司具有类似的7纳米密度并且台积电宣布比三星更大的密度改进,我们相信台积电在5nm处将比三星具有显着的密度优势。

据了解,作为一款集合了现代最高科技的产物,要想通过复刻EUV来打破ASLM的市场垄断,那难度虽然不是上青天,但也是相差无几了。不过令人没想到的是,日本最近却在这方面传来了好消息。我们都知道对于互联网行业来说很重要的5nm芯片,只能是特定的光刻机能够制造出来。

在芯片代工领域,台积电和三星是实力最强劲的两大巨头。不过,最近几年,台积电的实力要更胜一筹,通过7nm工艺,台积电拿到了苹果、高通、AMD、比特大陆等多家的大订单。而三星自家最新的Exynos 9820处理器,采用的则还是8nm工艺。

需要说明的是,三星的7nm工艺去年10月开始宣布并初步生产,今年年初实现量产。最近三星曝光的Exynos 9825处理器,很有可能就是采用7nm工艺,大概率会用在秋季登场的Note 10上,和采用A13处理器的新iPhone将直接对抗。

根据三星之前公布的制程工艺时间表,在7nm和5nm工艺之间,还会有6nm作为过渡。现在来说,7nm刚刚完成量产,5nm工艺也只是才宣布研发成功,正式量产的时间还没那么快。

极紫外光微影(EUV)技术据称将在5纳米(nm)节点时出现随机缺陷。根据研究人员指出,目前他们正采取一系列的技术来消除这些缺陷,不过,截至目前为止,还没有找到有效的解决方案。

这项消息传出之际,正值格芯(Globalfoundries)、三星(Samsung)和台积电(TSMC)竞相为明年的7nm生产升级其EUV系统至具有高可用性的250W光源。如今,这些随机缺陷的出现显示,针对半导体制造日益增加的成本和复杂性,并不存在任何解决问题的灵丹妙药。

比利时Imec研究机构的图形专家Greg McIntyre在日前于美国加州举办的国际光学工程学会先进微影技术会议(SPIE Advanced Lithography)上表示,最新的EUV扫描仪可以印制出代工厂为7nm所计划的20nm及更大尺寸之关键规格。然而,他们在制作精细线条和电洞的能力还不明确。

Intel 10nm工艺还在苦苦挣扎,台积电和三星已经开始量产7nm,下一步自然就是5nm,台积电近日也首次公开了5nm的部分关键指标,看起来不是很乐观。

明年,台积电的第二代7nm工艺会在部分非关键层面上首次尝试使用EVU极紫外光刻系统,工艺节点从CLN7FF升级为CLN7FF+,号称晶体管密度可因此增加20%,而在同样密度和频率下功耗可降低10%。

台积电5nm(CLN5)将继续使用荷兰ASML Twinscan NXE: 3400 EUV光刻机系统,扩大EUV的使用范围,相比于第一代7nm晶体管密度可猛增80%(相比第二代则是增加50%)。

看起来很厉害,不过能带来的实际频率提升只有15%,而同等密度和频率时功耗也只能降低20%,对比第二代7nm提升就更有限了。

不过台积电还提供了一个名为“极低阈值电压”(ELTV)的可选项,号称能将频率提升幅度增加到25%,但未解释具体是如何做到的。

目前我们只能制造中低端的掩模版,因此,中科院5纳米超高精度激光光刻加工方法的突破,可以进一步提高掩模版的制造水平。并用于晶圆厂生产芯片。

直白点说,两个用途完全不一样。此5纳米,非彼5纳米。“激光5纳米”是制造出生产芯片中用到的配件(掩模版),“EUV 5纳米”是完全是用于芯片生产。

现实情况,可以有些真的不懂,或者理解不到位。但有些真的就是营销性文章或视频。观众听多了,自然就真的以为是真实的。

譬如,武汉弘芯抵押的光刻机,中芯国际、长江存储、长鑫存储等企业都有,非要说成国内唯一一台7纳米光刻机。

国内某光刻胶生产厂商,购买了一台韩国二手光刻机。非要包装成,我们费了九牛二虎之力,转手得到一台来之不易的光刻机。

现实是这些光刻机并不在禁售范围,之所以购买二手,因为光刻胶厂商没有必要是新机。只要生产的光刻机符合技术要求即可。目前是除EUV光刻机外,其它随便买。

声明:该篇文章为本站原创,未经授权不予转载,侵权必究。
换一批
延伸阅读

荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)发布2022年第三季度业绩。期内净销售额58亿欧元,同比增长10.24%;净利润17亿欧元,同比下降2.24%。第三季度,ASML卖出了80台全新的光刻系统,以及6台二手光刻系统。三季度新...

关键字: ASML 光刻机 EUV

在桌面级处理器上,AMD多年来一直在多核上有优势,不过12代酷睿开始,Intel通过P、E核异构实现了反超,13代酷睿做到了24核32线程,核心数已经超过了锐龙7000的最大16核。在服务器处理器上,AMD优势更大,64...

关键字: AMD CPU Intel EUV

据业内消息,近日美国一家商业精密制造公司Zyvex表示制出了亚纳米分辨率光刻系统ZyvexLitho1,这个系统没有采用EUV光刻技术,但是却能产出只有0.7nm线宽的芯片,是目前最高制造精度。

关键字: Zyvex 0.7nm 芯片 EBL EUV ASML

JSR株式会社(JSR Corporation)今天宣布加速与SK hynix Inc.的合作开发进程,以便将JSR旗下公司Inpria的极紫外光刻(EUV)金属氧化物抗蚀剂(MOR)应用于制造先进的DRAM芯片。Inp...

关键字: DRAM 金属氧化物抗蚀剂 EUV

为了遏制中国的发展,美国近年来对华采取一系列的干预和打压措施已经屡见不鲜,在高新科技领域的技术封锁/贸易封锁更是美国的惯用伎俩,半导体就是这样的一个领域。据近日报道,美国为了全面遏制中国的半导体业发展,已经向荷兰政府施压...

关键字: ASML 光刻机 EUV

这些年,手机芯片成为领跑先进制程的代表,当前,高通骁龙、联发科天玑等均已进入4nm,年内甚至有望迎来首颗3nm手机处理器。

关键字: 5nm EUV 三星 台积电

据外媒消息,三星电子副会长李在镕有望在本周到访荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML),媒体认为他此行是为了抢购EUV光刻机。 据悉,李在镕的荷兰商务旅行将从6月7日开始,一直持续到6月18日。

关键字: 三星 光刻机 半导体 EUV

极紫外线光刻机是芯片生产工具,是生产大规模集成电路的核心设备,对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆,只能用EUV光刻机生产。

关键字: EUV 日本 光刻胶

5月23日消息,据报道,近日日本光刻胶巨头JSR的首席执行官埃里克约翰逊(Eric Johnson)在接受采访时表示,尽管中国在努力推动芯片的自给自足,但中国半导体产业必要的基础设施不足,比如很难掌握基于极紫外(EUV)...

关键字: JSR 光刻机 EUV 芯片

数据显示,公司一季度净收入35亿欧元,毛利率49%,净利润6.95亿欧元,新增净订单额70亿欧元,其中来自0.33NA+0.55NA EUV光刻机的量达到25亿欧元。

关键字: ASML EUV 光刻机

编辑精选

技术子站

关闭