英特尔向阿斯麦订购全球最先进的光刻机，单价超19亿！

1月19日下午消息，据报道，为了从台积电手中夺回“全球最先进芯片制造商”的地位，英特尔今日向荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML)订购了一款最先进的芯片制造机(光刻机)。

这款光刻机目前仍处于设计阶段，预计数年后才会交付。阿斯麦今日在财报电话会议上称，该公司目前已收到5台下一代光刻机的订单，以及一台仍在设计中的更新型号的订单。随后，阿斯麦和英特尔在另一份联合声明中称，英特尔就是更新型号光刻机的买家。

阿斯麦最先进的商用机器被称为“EUV光刻系统”，使用“极紫外光”(EUV)光波来绘制计算机芯片的电路的，其大小相当于一辆公交车，每台成本约为1.5亿美元。一家先进芯片工厂通常需要9~18台这样的设备。因此，光刻机是芯片制造商最大的资本开支之一。

当前，阿斯麦是此类机器的唯一制造商，其EUV客户包括全球最大的芯片制造商，如台积电、三星和英特尔等。

阿斯麦今日称，现已收到5台下一代光刻机的订单，这5台机器被称为“High NA”EUV，将采用不同的镜头系统，数值孔径(NA)更大，每台成本约为3亿美元。第一批原型将于2023年发货，预计要到2025年才能用于批量生产。

周三ASML公布的第四季度财报高于预期。此外ASML还宣布，目前已经收到数个有五台新型光刻机的订单，此外还有企业订购了一台仍在设计中、需要数年时间才能发货的顶级光刻机。

两家公司在一份单独的联合新闻稿中表示，英特尔是这台顶级光刻机的买家。

ASML最先进的光刻机是利用极紫外线蚀刻计算机芯片电路的极紫外(EUV)光刻机。整台机器大小与公共汽车相当，成本约为1.5亿美元。

对于芯片制造工厂而言，通常需要9到18台光刻机，这也是芯片制造商最大开支之一。

荷兰ASML是世界上唯一制造光刻机的厂商，EUV光刻机客户包括台积电、三星和英特尔等公司。

ASML表示，目前已经收到数个有五台新型光刻机的订单。这种名为“High NA”光刻机的极紫外光刻机配置不同的镜头系统，数值孔径更高，机器也更大，每台成本约为3亿美元。

第一批原型机将于2023年发货，预计要到2025年才能用于批量制造芯片。

英特尔正试图从台积电手中夺回芯片制造技术领先地位。此前英特尔曾确定自己是ASML High NA光刻机EXE:5000的第一个买家，预计这款机器将在21世纪20年代晚些时候帮助芯片制造商进一步缩小芯片尺寸。

英特尔周三表示，它还将购买第一台EXE:5200光刻机。这款光刻机仍在设计过程中，较EXE:5000作出提高芯片生产率在内的几项改进。但两家公司都没有提到这款机器的售价。

阿斯麦预期2022年一季度的营收将在33-35亿欧元之间，毛利率也将下降到49%。营收下降的主要原因在于快速发货的策略，导致一季度预期营收中有20亿欧元会递延至后续季度。从全年的角度来看，公司有希望实现净销售额上升20%左右。

值得一提的是，公司强调柏林工厂失火的影响已经被计算在内。根据目前的情况，公司预期这场火灾不会对全年产能造成显著影响。

公司同时确认2021年全年分红达到每股5.5欧元，较2020年正好翻了一倍。此外根据去年七月通过的回购计划，公司在四季度继续回购价值25亿欧元的股票。2021年，阿斯麦通过股票回购和分红，总共向股东返还了99亿欧元。

TWINSCAN EXE：5200是ASML的高NA(数值孔径)EUV光刻机，其吞吐量超每小时220片晶圆(wph)。

从路线图来看，EXE：5200预计最快2024年底投入使用，2025年开始大规模应用于先进芯片的生产。

事实上，4年前，ASML的第一代高NA(0.55 NA)光刻机EXE：5000，Intel就是第一个下单的公司。不过当前的7nm、5nm芯片还并非是其生产，而是0.33NA EUV光刻机。

和0.33NA光刻机相比，0.55NA的分辨率从13nm升级到8nm，可以更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，突破0.33NA单次构图32nm到30nm间距的极限。

外界预计，第一代高NA光刻机EXE：5000会率先用于3nm节点，至于EXE：5200，按照Intel的制程路线图，2025年至少是20A或者18A，也就是5nm和5nm+。

此前，ASML发言人曾对媒体透露，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺，将极度依赖高NA EUV光刻机。

Intel能抢到第一单，除了和ASML一致紧密合作外，当然也是因为“钞能力”，Gartner分析师Alan Priestley称，0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美元(约合19亿元人民币)。