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[导读]5月16日是联合国教科文组织定义的国际光日”,ASML中国官方在一篇微信推送中写道创新,让摩尔定律重焕光彩”。

5月16日是联合国教科文组织定义的国际光日”,ASML中国官方在一篇微信推送中写道创新,让摩尔定律重焕光彩”。

ASML中国强调,过去15年,摩尔定律依然生效且状况良好,未来十年甚至更长时间内将继续保持势头。

ASML自信满满地指出在元件方面,目前的技术创新足够将芯片的制程推进至至少1纳米节点,包括gate-all-around FETs(环绕栅极晶体管),nanosheet FETs,forksheet FETs以及complementary FETs”。

此外,光刻系统分辨率的改进(预计每6年左右缩小2倍)和边缘放置误差(EPE)对精度的衡量也将进一步推动芯片尺寸缩小的实现。

据了解,纳米之后将进入埃米时代,台积电、Intel等都制定了雄心勃勃的埃米工艺早期路线图。也许,技术创新之所以弥足珍贵,内核要义就在于不会被困难打倒。从去年开始,半导体芯片行业出现了新的研究方向,一个是利用新的叠加芯片的方式,来提高芯片的性能,其中以苹果的M1double双芯为代表,我国的华为也发表了这一方面的专利,另外一个是光子芯片的研发,其中荷兰政府已经出资组建高校和科研机构成立了项目组。

这是因为在行业中,大部分人认为由于摩尔定律半导体的材料受限,目前的3nm制程至少在两年内还是可以继续提供最先进制程的芯片,但是大家对于尚在计划中的1nm或者2nm的芯片,是否可以取得成功颇有争议。

业界的研发人员都希望能够在突破摩尔定律方面或者绕开摩尔定律限制方面开始未雨绸缪。但是,2022年5月17日报道称,ASML在公众号发表文章,称现有的技术可以实现1nm的工艺,摩尔定律还可以继续生效十年或者更长的时间。

ASML:摩尔定律还可延续10年,1nm工艺有望

ASML在文章中称,半导体领域中,摩尔定律一直在过去的50年里不断演化和推进,摩尔提出以最小的成本制造复杂芯片的预测,目前被解读为版代替芯片可容纳的晶体管数量的呈倍数增长。

摩尔总结了晶体管数量翻倍的三个重要的因素是:增加芯片的面积、缩小元件的尺寸和优化电路设计。ASML认为这三个要素目前行业将在未来十年甚至更长的时间内继续得以提升。

ASML分析了在元件方面目前的创新技术已经可以将芯片的制程推进到1nm节点,目前的前瞻性技术包括gate-all-around FETs,nanosheet FETs,forksheet FETs,以及 complementary FETs 等均由很大的机会可以实现这一条件。

台积电,三星是芯片制造巨头,也是目前唯二进入到5nm及以下工艺时代的芯片制造商。并且在3nm制程工艺方面,二者也都有了明确布局。

另外按照台积电的计划,2025年还会量产2nm。纳米芯片发展到这个程度,已经接近物理芯片规则的极限了。但光刻机巨头ASML正式表态,摩尔定律还可延续十年,并且将推进到1nm工艺。

结合ASML的表态来看,摩尔定律的极限真能被打破吗?ASML的表态说明了什么?

关于芯片行业的未来,ASML正式表态

自从芯片制造技术进入到7nm及以下芯片制程之后,关于摩尔定律的话题讨论在业内越来越频繁。因为芯片制程越往下,纳米制程工艺的突破就越难。

到了7nm,5nm制程工艺,芯片可容纳的晶体管数量已经达到了百亿级别。如果运用芯片堆叠封装技术,倒是可以实现千亿级晶体管的表现。

但是单纯从硅基芯片的物理规律来看,总会有一个界限。而这时候,摩尔定律就会被再次提及。每当以为芯片工艺再难突破的时候,却总是传出实现又一突破进展的新消息。就像台积电已经明确规划处3nm,2nm芯片的量产时间。

要想明白芯片行业的未来如何前行,首先要明白摩尔定律的定义。

这项定律是由英特尔创始人戈登摩尔,其在上个世纪六十年代就对未来的芯片行业发展做出预测,认为芯片上的元器件数量会每年翻一倍,并保持十年。

芯片技术的不断提升,也验证了这一事实。并且过了十年之后,戈登摩尔再次修正了摩尔定律,表明每两年晶体管的数量会翻倍。

在长达半个世纪的芯片发展历程中,当人们认为芯片工艺的路走到尽头时,摩尔定律再次得以体现,极限被打破。直到现在,3nm芯片的量产已经在准备当中了。

过去半个世纪摩尔定律始终存在,那么未来十年内的芯片行业发展,又当如何呢?对此,ASML正式表态了。

世间万物,芸芸众生,其实并没有无穷尽的存在,长江的源头来自于高山融雪,但是,终究也会有用完的一天。我们每天头上的太阳,其能量内核也有用尽的一天。我们每天晚上常常看到的月亮,据说可能寿命可能也有一百多亿年。

因此,目前根本就没有永恒的存在,在芯片领域,目前市面上已经成熟掌握了4纳米制程工艺。即将就要触顶摩尔定律的极限。但是,在阿斯麦尔看来,似乎在先进制程方面,还有摩尔定律发挥的空间。

那么,在芯片先进制程即将触顶摩尔定律极限的今天,为何阿斯麦尔依旧这么地执着呢?阿斯麦尔也是有所凭借的,那么,所谓的后手是否能挡得住全球摆脱阿斯麦尔光刻机的步伐呢?

阿斯麦尔认为,现有技术能实现1纳米

对于目前芯片先进制程不断走向摩尔定律极限的情况下,作为直接影响人,阿斯麦尔似乎并不担心,虽然可能有点难以置信,但是事实确实如此,今年5月3日,阿斯麦尔在自己的公众号上面发布了一篇文章。

在这篇文章中,阿斯麦尔认为,现有的技术已经足够将芯片先进制程至少推进到1纳米节点,也就是说,阿斯麦尔自信,认为如果加把劲,也未必不可能突破1纳米,阿斯麦尔认为自己完全有能力,能够在未来十年,甚至更长时间,保持芯片先进。首先就是目前众多的前瞻性技术,给了阿斯麦尔足够的底气。另外,光刻机系统的分辨率不断改进,每六年基本上都能缩小两倍,包括边缘防止误差越来越精准,阿斯麦尔也未必不能推动自己的光刻机产品实现芯片尺寸的进一步缩小。

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