荷兰通过 ASML 许可证，年底之前将继续出口中国

今年 6 月的时候，荷兰政府正式宣布了针对先进半导体设备出口的新规，即相关企业(ASML)在出口先进半导体设备之前必须获得政府的许可证，否则将被禁止。该规定已于上周五（9 月 1 日）生效，但近日荷兰政府通过了 ASML 的许可证，即年底之前 ASML 的先进浸没式深紫外光刻设备 (DUV) 将继续出口中国。

ASML 的发言人表示，出口限制确实从 9 月份开始实施，但该公司已获得在今年年底之前向中国运送受限制芯片制造机器的许可。这表明年底之前的这段时间是一个缓冲期，预计从明年开始将不会起获得出口三款先进浸没式深紫外光刻设备 (DUV) 型号的出口许可证。

也就是说，在新的出口管制条例下，今年年底前ASML仍然能够履行与客户签订的合同，之后就大概率不被允许了。但 ASML 表示出口管制条例不会对其 2023 年财务展望或长期展望产生实质性影响。

据悉，当时的出口新规只涉及部分最新的 DUV(深紫外)型号，包括 TWINSCAN NXT:2000i 以及后续推出的浸润式光刻系统，EUV(极紫外)光刻系统在此前就已经受到限制，而其他系统的发运未受荷兰政府管控。

根据 ASML 官网显示，其浸润式 DUV 光刻系统包括NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i 和 TWINSCAN NXT:2050i 三款设备。它们能够进行 38nm-45nm 制程工艺的晶圆加工，这其中 2000i 和 2050i 两款是出口限制新规中点名的设备产品。

此外，能够进行 45nm 以上晶圆加工的，比如 65nm-220nm 制程的干式 DUV 光刻设备(TWINSCAN XT:400L、XT:1460K、NXT:870等型号)均不在荷兰政府的出口管制清单之内。

ASML 执行副总裁兼首席商务官 Christophe·Fouquet 在接受采访时表示，全球半导体供应链当中，任何单一国家想要与别人分开是极其困难和需要巨大成本的。

美国从去年开始，在半导体领域实施了一系列对华出口管制措施，然而并未达到其预期效果。随后美国开始游说拉拢荷兰日本等几个重度参与半导体产业的国家来加强其措施。

今年第二季度，日本正式出台半导体出口管制措施，包含半导体生产过程中的光刻、刻蚀、热处理、清洗、检测等 6 大类 23 种半导体制造设备/材料，清单中受管制物品在向中国大陆和俄罗斯等地区出口时，需要获得日本经济产业省的许可证。