[导读]接下来我要戳破你的美梦。5月5日,中国最大的晶圆代工厂中芯国际宣布回归A股,确定科创板上市,拟发行16.86亿股份,募集的资金中,40%将投入14nm制程工艺项目。中芯国际回归A股,表明未来融资通道将更为顺畅,可望缓解制程工艺提升路上的资金饥渴。但市场更关心的,是中芯国际何时能用...
接下来我要戳破你的美梦。
5月5日,中国最大的晶圆代工厂中芯国际宣布回归A股,确定科创板上市,拟发行16.86亿股份,募集的资金中,40%将投入14nm制程工艺项目。
中芯国际回归A股,表明未来融资通道将更为顺畅,可望缓解制程工艺提升路上的资金饥渴。但市场更关心的,是中芯国际何时能用上EUV光刻机?公司联席CEO梁孟松曾明确表示,后续的5nm、3nm制程工艺,是必须要有EUV光刻机的。一个不可忽略的现实是,由于EUV光刻机目前无法实现国产替代,已经成为未来国产芯片制程工艺迈向国际领先水平的制约因素。问题来了,我们曾在一穷二白的条件下成功搞出“两弹一星”,为何就不能搞定EUV光刻机?或者说,EUV光刻机的研发难度会超过原子弹?0140个国家加入EUV光刻技术研发EUV光刻技术的研发始于20多年前,前后有近40个国家加入战团,欧美发达国家几乎悉数入局。行动最早的是美国。早在1996年以前,美国即开始电子束和软X射线光刻技术研究,不过并没有商业目的,研究机构主要是国家实验室、AT
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4月29日消息,美国对中国的封锁进一步加剧,甚至不想让ASML为已经卖给中国的光刻机提供售后维护服务,不过在ASML看来,这么做影响并不大,至少基本不会影响其收入。
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ASML
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IMEC
光刻机
当地时间4月22日,ASML宣布已与荷兰埃因霍温市政府签署了一份意向书,计划在该市的北部机场附近进行扩建,届时将可容纳2万名新员工。这或许意味着,其搬离荷兰的计划也将告一段落了。
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ASML
光刻机
4月23日消息,荷兰对光刻机巨头阿斯麦离开的消息感到十分担忧,但现在情况有了明显的好转。
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光刻机
7nm
业内消息,近日英特尔表示其已成为第一家完成组装荷兰ASML的新型“High NA”(高数值孔径)EUV(极紫外)光刻设备的公司,目前已转向光学系统校准阶段。这是这家美国芯片制造商超越竞争对手的重要举措。
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英特尔
ASML
EUV
光刻机
4月18日消息,ASML公开表示,将继续为中国大陆厂商提供设备维修服务。
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光刻机
业内消息,近日光刻机制造商阿斯麦(ASML)公布了2024年第一季度业绩,财报显示,该公司当季总净销售额53亿欧元,环比下降27%;毛利率51.0%,上季度为51.4%;净利润12亿欧元(当前约92.4亿元人民币),环比...
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光刻机
ASML
4月18日消息,光刻机巨头阿斯麦(ASML)业绩爆雷,这也导致公司股价大幅下挫。
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光刻机
7nm
3月31日消息,近日,全球光刻机巨头ASML(阿斯麦)打算从荷兰出走的消息引发关注。
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光刻机
7nm
业内消息,近日美国存储芯片大厂美光计划首先采用日本佳能的纳米压印(NIL)光刻机,旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储器的成本。
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佳能
纳米压印
光刻机
美光
2月17日消息,ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机,将用于2nm工艺以下芯片的制造,台积电、三星未来也会陆续接收,可直达1nm工艺左右。
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ASML
7nm
IMEC
光刻机
近日,美国智库战略与国际研究中心(CSIS)发文指出:硅光子学支撑并推动了光互连和光计算的进步,这项新兴技术可能会改变中美在半导体和人工智能方面的竞争。
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光刻机
硅光子
12月10日消息,尼康宣布,将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”,生产效率、套刻精度都会有进一步提升。
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尼康
光刻机
日前韩国今日电子新闻报道称三星计划斥巨资进口大量的半导体设备,其中包括更多的 ASML 极紫外(EUV)光刻设备。尽管因为合同中的保密条款未能披露具体细节,但证券市场消息称,该协议将使 ASML 在五年内提供总共 50...
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三星
ASML
光刻机
EUV
上个月佳能(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)技术实现了目前最先进的半导体工艺。然而,近日佳能首席执行官三井藤夫在采访中表示,该设备无法出口到中...
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佳能
纳米压印
光刻机
EUV
10月25日,第七届国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions,IWAPS)在浙江丽水盛大开幕。
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东方晶源
光刻机
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ASML预计2023年第四季度的净销售额在67亿至71亿欧元之间,毛利率在50%至51%之间。
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ASML
阿斯麦
光刻机
最新消息,近日佳能(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)技术实现了目前最先进的半导体工艺。
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EUV
佳能
光刻机
业内消息,近日多家外媒报道俄罗斯定下多个宏大科技领域的目标,其中包括在 2030 年之前建造 10 台的超级计算机,此外还包括在圣彼得堡理工大学的光刻综合体以更低的成本研发出比 ASML 更高效的光刻机。
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俄罗斯
超级计算机
光刻机
10月10日消息,这对于ASML来说是不是有点魔幻,俄罗斯号称开发出可以替代光刻机的芯片制造工具。
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光刻机
7nm
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System。
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光刻机
曝光系统
光刻系统