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[导读]接下来我要戳破你的美梦。5月5日,中国最大的晶圆代工厂中芯国际宣布回归A股,确定科创板上市,拟发行16.86亿股份,募集的资金中,40%将投入14nm制程工艺项目。中芯国际回归A股,表明未来融资通道将更为顺畅,可望缓解制程工艺提升路上的资金饥渴。但市场更关心的,是中芯国际何时能用...

接下来我要戳破你的美梦。
5月5日,中国最大的晶圆代工厂中芯国际宣布回归A股,确定科创板上市,拟发行16.86亿股份,募集的资金中,40%将投入14nm制程工艺项目。

中芯国际回归A股,表明未来融资通道将更为顺畅,可望缓解制程工艺提升路上的资金饥渴。但市场更关心的,是中芯国际何时能用上EUV光刻机?公司联席CEO梁孟松曾明确表示,后续的5nm、3nm制程工艺,是必须要有EUV光刻机的。

一个不可忽略的现实是,由于EUV光刻机目前无法实现国产替代,已经成为未来国产芯片制程工艺迈向国际领先水平的制约因素。

问题来了,我们曾在一穷二白的条件下成功搞出“两弹一星”,为何就不能搞定EUV光刻机?或者说,EUV光刻机的研发难度会超过原子弹?01


40个国家加入EUV光刻技术研发

EUV光刻技术的研发始于20多年前,前后有近40个国家加入战团,欧美发达国家几乎悉数入局。行动最早的是美国。

早在1996年以前,美国即开始电子束和软X射线光刻技术研究,不过并没有商业目的,研究机构主要是国家实验室、AT
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