半导体下半年 设备商按赞

微影设备大厂荷商艾司摩尔第2季财报符合市场预期，执行长PeterWennink表示，行动装置需求强劲，带动晶圆代工厂及存储器厂扩大投资，其中晶圆代工厂已着手准备20纳米以下先进制程产能，DRAM厂则扩大MobileDRAM的扩产，因此，下半年市场景气将优于上半年。

艾司摩尔（ASML）第2季因合并了微影光学厂Cymer，单季营收达11.87亿欧元，并销售了38台微影设备，其中来自于晶圆代工厂的订单占了43％强，又以台积电的订单最多。而艾司摩尔已接但未出货（backlog）的微影设备订单已达42台，将在年底前陆续交货给客户。

艾司摩尔执行长PeterWennink表示，晶圆代工厂客户已经着手进行20纳米至14纳米以下先进制程的微影设备建置，将用来生产新一代的行动装置内建处理器芯片，同样受惠于行动装置强劲需求的DRAM厂，因为面临产能短缺问题，也已开始着手扩充MobileDRAM产能。

艾司摩尔先前预估今年营收目标约47.3亿欧元，但受惠于客户扩大采购，营收目标将上调到50亿欧元。

艾司摩尔与英特尔、台积电、三星等共同合作进行的「客户联合投资专案」（CustomerCo-InvestmentProgram），主要投入极紫外光（EUV）及18寸晶圆微影设备的开发。

在EUV微影技术方面，艾司摩尔指出，研发进度符合预期，光源功耗已提升到55Ｗ，并完成60W的测试，预估2014年可将EUV微影设备的每小时晶圆产出量，提升到70片速度，亦即光源功耗将提升到100W。而艾司摩尔预估今年将出货5台NXE：3300B的EUV微影设备，并已拿到11台正式订单及7台预订订单。

根据台积电共同营运长蒋尚义的预期，EUV至少要达到每小时完成处理100片晶圆的产出量，才会具有经济效益，带动半导体厂改用EUV微影技术。设备业者推估，时间点应会落在2015年左右，10纳米可能是EUV真正可以进入量产的制程节点。

在18寸晶圆微影设备部份，艾司摩尔根据客户联合投资专案内容，正在准备生产6套设备，初期将分成浸润式（immersion）及EUV等两大平台，其中2015年会先推出EUV微影平台试产设备，2016年推出浸润式平台试产设备，真正量产型的18寸微影设备的出货时间大约落在2018年。