Molecular Imprints推动半导体450mm晶圆过渡

压印微影公司Molecular Imprints Inc.宣布，该公司采用J-FIL压印微影技术的Imprio450设备获业界半导体厂商采用，将协助用于开发其450mm 晶圆生产。该公司声称，这款设备能够协助加速半导体公司向450mm晶圆生产过渡，缩短至少两年的转型期。
Molecular Imprints公司表示，其Imprio450 设备在2012年底时获业界半导体公司采用。根据该公司表示，这项设备用于一项多年晶圆服务开发合约的一部份。
日前在一场由SEMI举办的产业策略研讨会上，英特尔公司副总裁Robert Bruck展示了该首款全图形化450mm晶圆。.
Molecular Imprints 公司专有的J-FIL 压印微影(Jet and Flash Imprint Lithography)技术已能实现小于2nm-3 sigma线边缘粗糙度和1.2nm 3 sigma临界尺寸均匀性的24nm图案结构。它并为10nm图形提供了单步骤制程的发展前景。
Molecular Imprints公司CEO Mark Melliar-Smith表示：「在一个光学微影开发计划往往长达数年以及花费动辄数十亿美元的时代，我们有能力在收到客户采购订单的短一年内实现设计、建造并提供一款先进的奈米压印平台。」
他补充说，该Imprio450的功能完全符合半导体记忆体制造方面的需求，不过该公司在将J-FL技术导入先进CMOS元件量产方面也取得了更多的进展。