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[导读]三维晶片(3D IC)俨然已成为超越摩尔定律的重要技术,吸引包括晶圆代工厂和封装厂纷纷抢进。由于矽穿孔(TSV)技术在晶圆制造前段即须进行,因此晶圆代工厂掌握的技术层级相对较封装厂高,在3D IC的技术与市场发展上亦较

三维晶片(3D IC)俨然已成为超越摩尔定律的重要技术,吸引包括晶圆代工厂和封装厂纷纷抢进。由于矽穿孔(TSV)技术在晶圆制造前段即须进行,因此晶圆代工厂掌握的技术层级相对较封装厂高,在3D IC的技术与市场发展上亦较具优势。

南台科技大学电子系教授唐经洲表示,晶圆厂商与封装厂商在晶片立体堆叠领域各有所长。
南台科技大学电子系教授唐经洲表示,矽穿孔为3D IC最重要的技术,采用矽穿孔技术的晶片产品才能称为3D IC,要进行矽穿孔,较佳的方式得在矽晶圆制造过程中即先行钻孔,如此一来,遭遇的问题将较少,而晶圆前段制程各项技术属晶圆厂最为熟知,自然晶圆厂商在3D IC的制造可掌握较多关键技术。

对封装业者而言,3D IC自然也是不可忽略的商机,唐经洲指出,3D IC属于系统封装(SiP)的技术一环,擅于将各式晶圆进行封装工作的封装厂,亦跃跃欲试。不过,碍于封装厂的技术多属于晶圆后段制程,若要取得已经过矽穿孔的晶圆半成品,依旧须从晶圆厂商购得,抑或者再投入庞大的资金建置前段制程,唯3D IC发展尚未非常明朗,封装业者对于庞大的投资能否进一步回收,仍抱持观望态度,以至于封装业者在3D IC的市场主导性不若晶圆厂

虽然目前封装厂在3D IC的市场优势稍薄弱,不过也不代表封装厂在晶片立体堆叠的市场将完全没有机会,唐经洲认为,3D IC矽穿孔技术毕竟技术门槛仍相当高,成本依然高昂,因此许多对3D IC有兴趣的业者,如应用处理器(Application Processor)大厂,即先选择采用2.5D架构,作为进入3D IC的基础。他强调,2.5D架构仅纯粹的晶片堆叠,毋须矽穿孔,因此技术难度相对较低,封装厂可掌握2.5D封装的关键技术,因此现阶段封装厂包括日月光、矽品皆已投入2.5D封装技术的发展。

专门提供IC制造设备的住程(SPTS)行销副总裁David Butler亦表示,就该公司客户来看,2.5D将是半导体产业前进3D IC架构的第一步,目前包括封测业者与晶圆代工业者研发重点皆以2.5D为主,并计划以此为基础发展3D IC

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