Mentor扩展版流程出炉，助力客户迎接更多设计挑战

Mentor Graphics公司近日宣布，公司已对台积电 Reference Flow 10.0中的工具和技术进行扩展。扩展的Mentor流程支持复杂的集成电路高级功能验证、28nm 集成电路 netlist-to-GDSII实现、与无处不在的Calibre物理验证和DFM平台更加紧密的集成和版图感知测试故障诊断工具。此外，新推出的Mentor流程还以Mentor工具解决功能验证、集成电路实现和集成电路测试中的低功耗设计问题。

“Mentor Graphics继续扩大Reference Flow系列产品的范围，从系统级到功能验证、布局布线、物理验证和硅片测试，再到提供新的解决方案，如低功耗、工艺多变性和硅片良品率分析，力争使其覆盖整个集成电路设计周期”，台积电设计架构市场部高级总监庄少特表示。

Reference Flow 10.0 Mentor流程新增添了许多功能，包括台积电Reference Flow中的首个Mentor实现解决方案，即 Olympus-SoC布局布线系统。对于高级的集成电路实现，Olympus-SoC系统的新功能成功解决了片上变异、28nm布线和低功耗设计问题：

高级阶段OCV分析和优化——设置不同阶段的OCV数值，帮助减少失败率，实现更快的设计收敛。

N28布线规则——为整个netlist-to-GDSII流程提供28nm支持，包括支持28nm transparent half-node。

分离式Power Domain——支持在同一电压域设多个floor plan，以最大程度减少拥挤程度和层次化修改。

UPF层次化低功耗自动化——为基于UPF的低功耗设计提供top-down和自bottom-up的支持，赋予设计师更多灵活性。

对Olympus-SoC和Calibre平台内的DFM功能进一步扩展和集成，以解决28nm级或更高级别的工艺多变性问题

光刻热点修复——利用Olympus-SoC布局布线工具自动修复Calibre LFD检测到的光刻热点来提高良品率。

快速收敛解决金属填充时序和ECO——Olympus-SoC系统调用Calibre CMPAnalyzer工具（配合台积电的VCMP仿真器工作）来分析厚度变异对时序的影响。

Olympus-SoC工具还支持层次化、递增和时序驱动金属填充流程，极大地提高了良品率，降低了失败率。

Cell-index感知布局——为管脚难以处理的模块分配更多空间，降低拥挤程度，加速布线。

电气DFM——集成Calibre xRC和Calibre CMPAnalyzer产品，允许将仿真厚度信息合并到寄生参数提取结果中，以驱动精确的电路仿真。它还将统计性寄生参数信息发送给Mentor Eldo电路仿真器，为更高效的边角仿真和统计分析提供解决方案。

此外，Calibre nmDRC和Calibre nmLVS产品还支持Reference Flow 10.0封装（SIP）设计中的2D和3D系统sign-off物理验证。

Reference Flow 10.0加入了TestKompress?和YieldAssist产品的新特性，用于更好的缺陷检测、功耗感知测试和故障诊断：

嵌入式多检测ATPG——提高桥接缺陷检测，而不增加样式大小或测试时间。

版图感知诊断——减少错误的桥接/开路疑点，提高诊断精度，为有效的良品率分析建立基础。

低功率ATPG——利用恒定解压器和现有时钟门控功耗感知控制，降低扫描测试所有阶段的功耗。

Reference Flow 10.0还包括了Questa和0-In平台的高级功能验证特性，用于复杂IC设计的增强型验证。

基于标准的解决方案，支持IEEE标准、1801-2009 UPF和IEEE标准、1800-2005 SystemVerilog。

集成低功耗仿真和形式化功能，在设计流程早期验证高级功耗管理电路。

跨电路复杂时钟域静态和动态验证，保证标准和低功耗模式下能正常工作。

“台积电Reference Flow 10.0中完整的Mentor设计到硅片流程允许我们一起帮助共同的客户解决在28nm所面临的最大挑战，包括低功耗设计和验证、大规模SoC实施、工艺多变性、经济型测试和良品率分析，”Mentor Graphics主席和CEO Walden C. Rhines说。“行业在向28nm工艺过渡时也提出了新的技术挑战，Mentor为此有自己独到的解决方案。我们与台积电密切合作，利用工具消除设计师和代工厂间的距离，并同时帮助客户在提高产品性能和可靠性的同时缩短产品的上市时间。”