应用材料公司发布IGZO用和支持8.5代基板的LTPS成膜设备

美国应用材料公司2012年10月31日在横滨召开了新闻发布会，发布了氧化物半导体IGZO（In-Ga-Zn-O）用成膜设备以及支持第8.5代基板的低温多晶硅（LTPS）用成膜设备的新产品。这些设备能够降低新一代液晶显示屏及有机EL显示屏的制造成本。

为了实现高性能液晶显示屏和有机EL显示屏的量产，各厂商开始积极采用LTPS及IGZO等新一代TFT材料。这些新材料与目前主流的非晶硅（a-Si）材料相比，迁移率等性能高，作为提高显示器的显示性能、实现低功耗化和低成本化的技术备受期待。尤其在有机EL电视领域，这些新材料有助于大幅延长显示器的寿命，优点更为显著。

在发布会上，应用材料首先发布了三种LTPS用CVD装置，分别是支持第5代基板的“AKT-15KPX”、支持第6代基板的“AKT-25KPX”以及支持第8.5代基板的“AKT-55KPX”。该公司表示，“此前业界一直认为制造支持第8.5代基板的LTPS用CVD装置极为困难，但我们终于成功推出了全球首款设备”。

应用材料充满自信地表示，“在LTPS用CVD设备领域，只有我们的产品能够覆盖从第4.5代到第8.5代基板”。该公司预测称，虽然目前仍然存在成本高的问题，但随着便携设备的快速普及，LTPS显示屏也将在世界范围普及。

随后，应用材料又发布了已被多家面板厂商采用的IGZO用溅镀设备“AKT-PiVot IGZO”。该产品的特点是，在圆柱状靶材旋转的同时进行扫描，使得原来的平板式设备经常出现的结瘤物明显减少。此外，该设备还采用了该公司称之为“魔法产品”的、在转子内侧带动磁铁运动的系统，保持了出色的均质性，从而使得此前IGZO显示屏的一大课题——显示不均现象大为减少，能够确保较高的成品率和生产效率。因此，该设备可为降低显示器的制造成本作出贡献。

采用IGZO的显示屏已从2012年开始量产。在“FPD International 2012”（10月31日～11月2日，太平洋横滨国际会展中心）展示会场内的半导体能源研究所的展区等，也能看到a-Si TFT显示器与IGZO TFT显示器的对比展示。