应用材料公司：深耕中国市场 推动平板显示技术向前发展

回顾国内平板显示行业的10年发展，无论是此前CRT、PDP与LCD之争，还是现在新型显示技术OLED与液晶技术之争，我们都可以看到新技术正逐渐涌现。"显示器行业正处在技术变革和需求变革的时代。"应用材料公司平板显示CVD产品事业部总经理肖劲松这样讲道。

其实我们在各大重量级的展会上，如美国的CES，德国的IFA等等都可以感受到显示技术发展之迅速。而2014年CES展会上曲面、4k、OLED成为关注的焦点。当1080P正在逐渐走向主流时，4K显示时代又悄然来临，与此同时8K显示又跃跃欲试。这些现象归结在于人们对更高视觉体验的追求一直没有停歇，我们正在迎接一个高解析度显示时代。为应对全新的技术挑战，客观上需要面板厂商与上游设备和材料供应商紧密合作。

应用材料公司作为全球最大的半导体设备及服务供应商，同时在显示器领域不断开发新技术，推动显示技术走向未来。由于在平面显示器制造电浆强化化学气相沉积(PECVD)技术领域的突出贡献，应用材料荣获了2013年度IEEE企业创新奖。IEEE是全球最大的专业协会，以促进人类科技跃进为宗旨。3月20日，应用材料公司平板显示CVD产品事业部总经理肖劲松以及PVD产品事业部研发总监Marcus Bender博士为我们分享了应用材料公司在高解析度显示时代的TFT和TFE解决方案。

　　一、金属氧化物TFT解决方案

金属氧化物对于设备稳定性及显示色差（Mura）要求比较高，同时金属氧化物主要应用在高清晰度的移动设备和OLED TV上面，对于颗粒度要求更高，需要通过颗粒度的控制来提高良品率。

应用材料公司的CVD采用双层膜结构，在传统氮化硅基础上采用二氧化硅膜层。二氧化硅含氢量比较低，这样就能达到很好的均匀性。而在PVD方面通过提升IGZO的膜厚以及均匀性，同时采用地颗粒度的系统设计，来避免金属氧化物色差（Mura）的产生。正是基于在CVD及PVD方面的独特工艺与设计，目前全球主要的厂商都采用应用材料公司的设备。

具体来讲，CVD采用空心阴极梯度递减技术（HCG），在大面积玻璃表面形成均匀的等离子体，保证大规模化学沉积的均匀性。另外采用自上而下的RPSC工艺（远程等等离子体清洗），提升均匀性。通过这些设计，可以达到第十代的膜厚均匀性。而在PVD方面，相对于传统工艺来说，采用了旋转阴极的解决方案。旋转靶可以增加气流均匀性，对于膜层均匀性提升有很大的帮助。同时旋转靶能够使结瘤和再沉积最小化，相对于传统平面靶在缺陷控制上有很大的提升。

　　二、LTPS（低温多晶硅）TFT解决方案

高分辨率移动显示时代，随着相似体积的减小，OLED和LCD屏幕都需要采用双电容技术。对于CVD及PVD均匀性和低颗粒度特性都提出了新的要求。应用材料公司是业界唯一一家能够提供从5.5代、6代到8.5代生产设备解决方案的企业。在PVD均匀性方面，应用材料公司在2013年为10%到8%，2014年达到5%，2015年将达到3%。

在CVD方面2014年将重点研发锁阀门减震及零冲击狭缝阀技术，来尽可能降低震动带来的副产物沉积。而在PVD方面，继续优化薄膜均匀性。通过摇摆和SSM（定向对角溅射）、切角加工实现边缘无膜区、材料分段数等方式来提高薄膜的均匀性。

　　三、薄膜封装解决方案

OLED薄膜封装对于更可靠、柔软的阻隔层，减少颗粒，边缘阶梯覆盖及MASK对准精度提出新的挑战。为此，应用材料公司提出全新的全CVD膜系结构。在薄膜封装过程中采用氮化硅做阻水层提高阻水性；采用光学对准掩膜板保证出片率；采用并行流程提高开机率。

另据应用材料中国区销售经理方甦棣介绍，2013年中国占全市电视机市场的26%，同时中国智能手机也占全球32%。中国正在成长为全球最大的显示屏生产国以及显示产业投资国，并且对于新型显示技术的研发和接受度逐渐提升。应用材料公司已在国内市场深耕30年，具有很好的"本土化"优势，也将与中国客户更加紧密合作，加速新技术导入与新产品上市。