英特尔耗资20亿美元在墨西哥州开新芯片厂

日前，英特尔宣布他们耗资20亿美元在新墨西哥州Rio
Rancho市建立的芯片厂正式投入使用。新芯片厂被英特尔定为了11X分厂，其将采用最新的0.13微
米芯片工艺、300毫米晶元技术打造产品。2003年，11X分厂将转向0.09微芯片生产工艺。整个
11X分厂的占地面积达100万平方英尺，而厂区面积达20万平方英尺。


据悉，英特尔的11X分厂更具环保效应，他们将比其他英特
尔分厂排放更少的污水、其他污物排放量也将骤减。11X分厂的水和化学资源利用将更趋有效。和
200毫米晶元技术的芯片工厂相比，11X的挥发性有机物产生量少了48%，水的使用率少了40%，耗
能量差不多少了40%。


和竞争对手(AMD、UMC等)采用200毫米晶元技术相比，英
特尔全球的芯片工厂几乎都已启用了300毫米晶元技术，技术领先优势非常明显。但英特尔芯片的
晶体管单元是最多的，他们出产的处理器内核尺寸也比其它公司的产品大了不少。总体来说，目前
几大处理器出品公司的运做成本都不相上下。


摘自中关村在线