上海新阳：ARF193nm光刻胶转入产业研发，配套光刻机12月到货

12月2日，上海新阳在互动平台表示，公司用于KRF248nm光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试，ARF193nm光刻胶配套的光刻机预计12月底到货。

上海新阳表示，ARF193nm光刻胶是芯片制造进入90nm铜互联制程后最重要的主流光刻胶产品，一直是国内空白。研发此款光刻胶意在填补国内空白，实现芯片制造在关键工艺技术和材料技术的自主可控。经过近三年的研发，关键技术已有重大突破，已从实验室研发转向产业研发。

根据规划，上海新阳将在未来5-10年，对国内尚属空白的各类高端半导体光刻胶和光刻胶配套材料进行研发，逐步形成公司第三大核心技术-电子光刻技术。其中，KRF光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试，预计明年上半年开始中试。

此前，上海新阳购置了一台 ASML1400 型二手光刻机，用于光刻胶的研发，这台光刻机可以覆盖到 55nm 技术节点，后续也会配置相关研发设备