全球的缺芯现象还在持续：ASML官宣全新光刻机问世

目前，全球的缺芯现象还在持续，各国都在积极布局半导体。而这其中有一个最为关键的设备，现在谁也绕不开，那就是光刻机。也因此，光刻机行业的领先玩家荷兰ASML的一举一动都备受关注。最近，这家企业还做出了两个重要决定。

我们知道，现在能够独立生产光刻机的企业不多，主要就是荷兰ASML和日本的尼康、佳能，还有我国的上海微电子。而荷兰ASML能够在光刻机领域处于垄断地位，关键是它垄断了高端光刻机，尼康、佳能和上海微电子只能生产中低端的。

只有荷兰ASML这一家能够生产EUV光刻机，原因也是因为当年英特尔同意它加入了EUV LLC组织，拒绝日本光刻机企业加入，让其独享了该组织的EUV技术。但也因此，ASML之后需要每年定期接受相关检查，并且以后也一直受到相关限 制。

半导体权威机构imec前不久发布业内的最新消息，其中最重要的消息就是High NA(高数值孔径)EUV光刻机，ASML提前将其提前量产，0.55NA的下代EUV光刻机一号试做机可能在2026年量产。

ASML透露，首台NA EUV光刻机2023年开放早期测试，并从2025年开始量产，但是分析人士认为这并不现实。为啥要研制新一代的光刻机，之前的不好使吗?光刻机的迭代，使这种设备拥有了更高的光刻分辨率、更高效的生产效率、更简单的光刻工艺。相对应的，光刻机设备与芯片制程工艺相匹配，目前，最先进的芯片制程工艺为3nm，现有EUV光刻机还能够满足其需求，但对于下一代2nm制程工艺而言，有点不够看，就需要High NA EUV光刻机将重任一肩挑起。

所谓High NA EUV光刻机，就是通过调大透镜的参数使光刻机拥有更高的分辨率，它的工作原理与EUV基本一致，但它的特使镜头能够向两个方向同时放大，一个放大8倍，一个放大4倍。这可以让光线以更多角度穿过光罩，提升成像图案的分辨率，并成为解决与EUV 多重图案相关成本问题的关键。凭借这点，这台机器生产的芯片应该是史上处理速度最快、效率最高的。

为什么不看好High NA EUV光刻机2025年进行量产呢?业内人士称，一台High NA光刻机的成本预计为3.168亿美元，但事实上总成本可能更高，因为这套全新的系统需要新设备、新光掩模和不同的光刻胶才能运转。供应商们都在竭尽全力的研发新技术，但与目标依然存在一些差距。

关注芯片产业发展的朋友们都知道，作为芯片产业的上游，光刻机设备是目前芯片制造中的关键设备，特别是生产高端芯片必须要用到EUV光刻机。而EUV光刻机只有荷兰ASML这一家公司能够集成制造，由于EUV光刻机本身的制造极其复杂，因此ASML每年交付的EUV光刻机数量有限，而且每台价格高达1.5亿欧元，即便是这种情况下，该款设备依旧供不应求。

不过，对于垄断全球高端光刻机市场的ASML来说，第一的宝座并不是高枕无忧的。由于ASML并没有自主决策权，在被限制不能自由销售EUV光刻机的情况下，ASML曾多次申请出货许可，甚至联合台积电和高通等企业一起申请，争取获得EUV光刻机的出货许可，然而至今只有高通拿到了部分的出货许可。

据了解，ASML新一代的光刻机在NA值上比上一代的数值有所上升，从0.33的数值上升到了0.55，具备了更高的曝光精准度。与此同时，在单位时间上所可以曝光的晶圆数量也提升了不少。只不过，虽然这一代的新光刻机比起老一代来说优势很明显，但也有一个“短板”，那就是售价极为的高昂，已经超过了3亿美元的售价。

但尽管如此高昂的售价，也还是有企业对其很感兴趣。其中就有三星跟英特尔。三星表示想优先获得新一代的光刻机，而英特尔则表态说明他们将优先获得新一代的光刻机。可以看到，三星跟英特尔的言论是有区别的，三星只是表达了自己想要的想法，但是英特尔却表示他们已经有所机会。

从这一点我们就能知道，面对新一代的光刻机，ASML给了英特尔一个优先的权利。事实上，ASML的态度并不让人意外，因为在此前ASML就表过态会将优先权给到英特尔，而不是此前的台积电。当时就有不少业界人士猜测，在今后的日子里或许英特尔都会享有这个优先的权利，现如今来看这果不其然。

只是有些好奇的是，就算ASML此前没有表态要优先给三星，三星也一样对新的机器表现出了比较期待的态度。可是台积电却沉默了。面对高昂售价的新一代光刻机，台积电并没有表现出他们强烈需求的欲望。