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[导读]制裁中兴、制裁华为,深深让国人感受到了中国在半导体芯片领域的薄弱。美国对中国集成电路产业链的精准打击,更是让国人认识到了中国在芯片制造设备领域的薄弱。而对于芯片制造来说,最为关键的设备当属光刻机。















制裁中兴、制裁华为,深深让国人感受到了中国在半导体芯片领域的薄弱。美国对中国集成电路产业链的精准打击,更是让国人认识到了中国在芯片制造设备领域的薄弱。


而对于芯片制造来说,最为关键的设备当属光刻机。


光刻机按照用途可以分为IC 前道光刻机、封装光刻机、面板光刻机以及 LED/MEMS/功率器件光刻机。而我们经常所说的芯片制造所使用的则是IC前道光刻机。


资料显示,光刻工艺是芯片制造过程中占用时间比最大的步骤,约占芯片制造总时长的40%-50%。同时,光刻机也是目前晶圆制造产线中成本最高的半导体设备,约占晶圆生产线设备总成本的27%。目前最先进的 EUV 设备在2018 年单台平均售价高达 1.04 亿欧元。



28nm光刻机,中国已拿到“入场券”!可制造7nm芯片!


(先看视频)


近日,央视财经专题节目《而立浦东》,报道了上海微电子的最新进展。一台上海微自研的光刻机将发货。


关于这台光刻机的具体信息不多。结合上海微最新官宣信息,这台光刻机基本确定是28nm工艺的。


什么是光刻机?它是制造集成电路,也就是芯片制造最关键的设备之一。每颗芯片诞生之始,都要经过光刻机的锻造。光刻机利用光刻工艺,将母版上复杂的电路设计图形转化为硅片上的电路。


可以说,如果没有“中国光刻机”,那么制造“中国芯”也就无从谈起。


中国早在18年前,02专项中就制定了光刻机突破的时间节点,2020年实现28nm光刻机的自主研发。


在02专项光刻机项目中,设定的时间为2020年验收193nmArF浸没式DUV光刻机, 对标产品为ASML现阶段最强DUV光刻机: TWINSCAN NXT:2000i。


以NXT:2000i为例, 各子系统拆分如下:上海微电子负责光刻机设计和总体集成,北京科益虹源提供光源系统,北京国望光学提供物镜系统,国科精密提供曝光光学系统,华卓精科提供双工作台,浙江启尔机电提供浸没系统。


这台28nm光刻机,是集全中国最牛公司的智慧结晶,中国半导体产业链成熟的真正家底。


193纳米ArF浸没式DUV光刻机,其制程工艺为28纳米。


更重要的是这台国产193纳米ArF浸没式DUV光刻机在经过多重曝光下,最高可实现7nm芯片量产,虽然还无法媲美目前最顶尖的EUV光刻机设备,但这套国产光刻机设备诞生,绝对可以完成绝大部分芯片生产。






ASML同时表态:DUV可供应中国!坚决不放弃中国市场!


美国以“国家安全”为由恐吓、威胁、制裁中国集成电路技术自主;光刻机作为全球高科技智慧的结晶,一直受制于美国法律。ASML虽有心供应中国,但受限于美国法律,最先进的EUV产品出口,ASML有心无力。


目前全球绝大多数半导体生产厂商,都向ASML采购TWINSCAN机型,比如英特尔(Intel)、三星(Samsung)、海力士(Hynix)、台积电(TSMC)、中芯国际(SMIC)等。


虽受美国禁令影响,ASML在中国进博会宣布,可销售DUV光刻机。这是在向中国、向全球表明态度,坚决不放弃中国市场

ASML的DUV光刻机不受美国法律影响,顺利供应中国,很能说明问题,中国上海微28nm光刻机已经成熟,EUV技术再无提防中国的必要。


美国对我们的技术封锁方式一直没变过,只要我们研究出来自己的技术,就开始打开大门!


28nm作为当前关键技术节点的性能和技术优势,光刻机国产替代将迎来新的曙光,打破美国垄断制裁。


28nm光刻装备的成熟,就是中国进入7nm高阶芯片的临门一脚。



集结优势力量,“自主7nm”3年可望成熟。


之前,全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能垄断,中国根本靠不上边,上海微光刻机的突破,给中国自主7nm带来机会。


我们认为光刻机国产替代将迎来新的曙光,尤其是IC前道制造领域,将初步打破国外巨头完全垄断的局面,实现从0到1的突破。


刻蚀机、光刻机、光刻胶,中国相继单点突破,由点及面,中国7nm之路正在一步一步被打开。

7nm都以为中国被卡脖子,但很多人还没意识到这一点,还沉醉在光刻机ASML独一份的旧梦中。


中国28nm光刻机的突破,迫使美国同意ASML DUV光刻机可供应中国。背后压力有中芯国际7nm工艺的突破、上海微DUV光刻机的成熟、中国政策资本不计代价的投入。


中芯国际利用ASML DUV光刻机制造出7nm芯片的事情,已被大众熟知。同时,上海微的28nm DUV光刻机制造成功,中芯国际用上国产光刻机的时间不会太久。


中芯国际利用ASML DUV光刻机研发7nm的技术积累,改换上上海微DUV光刻机,这个时间同样不会太久。


2021年,我们就有望看到中芯国际用上国产光刻机研发7nm。保守点儿讲,再加上一年的技术积累,小编相信,在政府不计成本的投入,2023年我们或可看到中国自主7nm芯片的下线。


芯片要摆脱垄断,只有将技术牢牢地掌握在自己的手中,那么芯片局面才有可能扭转。


集结资本技术优势力量,中国产业链自主,我相信3年即可成熟突破。



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