Mapper光刻机延期交货长达三月 台积电制程研发或受影响

据海外媒体消息，台积电的光刻机供货商Mapper公司已将300mm光刻设备交货日延期近三个月之久。Mapper的多束电子束（e-beam）光刻机原计划于今年第一季度装备台积电300m m工厂，但由于技术上的原因Mapper公司拖延了交货日期，此举可能对台积电的制程研发进度造成一定的影响。

据了解，台积电CEO蔡力行曾称台积电已在与合作伙伴联合开发22nm及更高规格制程用多束e-beam光刻技术，以便公司尽早实现向32nm制程的转换。

据悉，2008年十月份，台积电与Mapper公司签署了一份供货协议，根据这份协议，Mapper将为台积电制造30 0mm多束e-beam光刻设备用于制程开发，并为该公司提供光刻原型机。