Mapper光刻机延期交货长达三月 台积电制程研发或受影响
扫描二维码
随时随地手机看文章
据海外媒体消息,台积电的光刻机供货商Mapper公司已将300mm光刻设备交货日延期近三个月之久。Mapper的多束电子束(e-beam)光刻机原计划于今年第一季度装备台积电300m m工厂,但由于技术上的原因Mapper公司拖延了交货日期,此举可能对台积电的制程研发进度造成一定的影响。
据了解,台积电CEO蔡力行曾称台积电已在与合作伙伴联合开发22nm及更高规格制程用多束e-beam光刻技术,以便公司尽早实现向32nm制程的转换。
据悉,2008年十月份,台积电与Mapper公司签署了一份供货协议,根据这份协议,Mapper将为台积电制造30 0mm多束e-beam光刻设备用于制程开发,并为该公司提供光刻原型机。