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[导读]近日,大陆半导体积极布局发展是否会对台湾半导体业者构成威胁的问题引来了全球半导体的讨论。在SEMICON Taiwan 2014上,比利时微电子(IMEC)执行长Luc Van Den Hove表示,大陆半导体业者虽然积极,但先进制程脚步仍慢

近日,大陆半导体积极布局发展是否会对台湾半导体业者构成威胁的问题引来了全球半导体的讨论。在SEMICON Taiwan 2014上,比利时微电子(IMEC)执行长Luc Van Den Hove表示,大陆半导体业者虽然积极,但先进制程脚步仍慢,距离台湾太遥远,台湾仍是半导体产业先进制程技术的领先者。

作为欧洲半导体业者的代表,IMEC 与荷商微影设备大厂ASML也有着紧密合作伙伴关系,日前ASML才欢喜揭露极紫外光(EUV)机台技术有重大突破,不但是机台的曝光片数大幅成长,且接获多家重量级半导体大厂对于新EUV机台的订单,让EUV技术进入10纳米制程进度有大斩获,得以延续半导体摩尔定律前进。

Van Den Hove表示,很高兴看到ASML的极紫外光(EUV)技术获得突破,事实上,半导体大厂进入16/14纳米FinFET制程技术世代后,都面临相当多挑 战,FinFET制程的难度十分高,但移动通讯产品需要低功耗、高效能的特性,也使得高阶先进制程需求的必要性提升,同时FinFET制程技术也会一直延 续到7纳米世代。

尤其ASML在EUV机台的突破,得以让半导体大厂先进制程寿命可持续,并维持一定的成本降低目标,部分公司已考虑在10纳米制程第二阶段的投产计画中,加入EUV机台技术,整个半导体产业来自于晶圆代工、逻辑制程技术等,对于EUV机台的需求,将是十分强劲。

此外,半导体材料也不断追求新突破和创新,例如加入锗(Ge),与矽共同结合,加速半导体晶片运作的效能。

再者,半导体大厂在先进制程28纳米、20纳米、16/14纳米、10纳米和7纳米制程的投资增加十分庞大,使得风险升高,因此很多半导体厂也藉由和IMEC合作,以降低生产成本,共同开发先进技术。

其中合作厂商包括英特尔(Intel)、三星电子(Samsung Electronics)、GlobalFoundries、SK海力士(SK Hynix)、东芝(Toshiba)、新帝(SanDisk)等。

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