应用材料 推出缺陷分析系统

应用材料公司推出「Applied SEMVision G6缺陷分析系统」。图文／周荣发
在全球半导体、光电产业享有高知名度的应用材料公司，在美西半导体展期间，推出最新缺陷检测及分类技术「Applied SEMVision G6缺陷分析系统」，该系统乃结合高分辨率、多维影像分析功能及革命性创新的Purity自动化缺陷分类系统高智能的机器学习算法，可加速达成10纳米及以下的顶尖芯片生产良率，除是半导体产业首创引进缺陷检测扫瞄电子显微镜技术，更可将有效协助半导体产业发展。

该企业副总裁暨制程诊断与控制事业处总经理依泰?罗森费德表示，在面对新的10纳米设计规则及3D架构技术要求，现有的缺陷检测及分类技术能力面临挑战，而应材的SEMVision G6与Purity ADC以无与伦比影像分析及更快且更准确的强大分类工具，解决半导体业缺陷检测诸多制程控制上的问题。

SEMVision G6系统先进的侦测组合及精密的制程，能让微小且不易被发现的缺陷，以高质量层析成像影像呈现，高能量影像处理能以「看穿」渗透的方式，找出重要电子层的缺陷。网址：www.appliedmaterials.com。