[导读]台积电与转投资的设备商Mapper共同宣布,Mapper安装在台积电12吋厂Fab12中的原型机台正不断地重复写出超威小电路组件,系先前使用浸润式微影技术(immersion)所无法达到的成果。事实上,台积电与Mapper合作多重电子
台积电与转投资的设备商Mapper共同宣布,Mapper安装在台积电12吋厂Fab12中的原型机台正不断地重复写出超威小电路组件,系先前使用浸润式微影技术(immersion)所无法达到的成果。事实上,台积电与Mapper合作多重电子束的无光罩(maskless)技术,主要用在22奈米微影技术研发上,市场认为台积电在22奈米制程研发已明显领先同业,多重电子束亦将成为未来微影技术的技术标准之一。
台积电与荷兰设备商Mapper在2008年底宣布签署协议,依此协议Mapper将会出货第一台12吋无光罩多重电子束微影设备给台积电,作为制程开发与组件试制之用。此设备让台积电进一步探索在22奈米及更先进制程中,以多重电子束无光罩技术,当作微影技术选项之一的机会。而经过一年余的研发,两家公司宣布已有具体成果。
台积电研究发展资深副总经理蒋尚义表示,台积电在制程上一直不断寻求最具成本效益的做法,而使用Mapper公司机台所得到的成果,不仅符合此一目的,也是多重电子束直写入项目中的一项重大成就,此项目涵括所有可行的多重电子束技术,相信多重电子束技术将成为未来微影技术的技术标准之一。
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