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[导读] Intel和美光(Micron)日前宣布,其合资公司IM Flash Technologies已经开发出基于34nm工艺的32Gb MLC NAND闪存单芯片,该器件die面积仅为172mm2,将使用300mm晶圆片制造。Intel和美光计划从6月份开始提供样片,量产

    Intel和美光(Micron)日前宣布,其合资公司IM Flash Technologies已经开发出基于34nm工艺的32Gb MLC NAND闪存单芯片,该器件die面积仅为172mm2,将使用300mm晶圆片制造。Intel和美光计划从6月份开始提供样片,量产则在今年晚些时候。

    “Intel和Micron的进步令人吃惊,他们在三年之内已经追上并超越了其他竞争者,基本上领衔了这场竞争。”市场调研机构Objective Analysis分析师Jim Handy表示,“使用该工艺,可以在一片300mm晶圆上切割出400片单芯片,可令32Gb NAND价格低于每颗芯片4美元。” 凭借该产品,IM FLASH成为第一个突破1美元/GB壁垒的公司。

    目前,主流NAND制造商基于50~57nm工艺在300mm晶圆上量产MLC NAND,32Gb MLC NAND闪存的每GB价格在2.5美元左右。IM FLASH成本优势明显。即使考虑到今年大多数NAND制造商将导入40~48nm工艺,对应价位也不低于$1.75/GB,如果NAND价格能保持在其他竞争者的价位,则IM FLASH将获得巨大的利润。

    但是,IM FLASH领先优势依然是脆弱而短暂的。NAND的成本不仅取决于die size,还取决于产能和良率,IM FLASH跳过45nm工艺直接进入30nm制程,能否成功导入量产将是非常严峻的挑战。此外,竞争对手也都计划在今年40nm工艺成熟后,于明年跨入30nm工艺时代。

    东芝计划在Q2/09导入32nm工艺,并正与SanDisk联合开发3bit/单元的MLC技术,利用该技术,可以在不提升制程的条件下,直接提升NAND密度达50%,从而开发出高达48-Gbit的MLC NAND单芯片。此前,东芝与SanDisk已经发表了采用43nm工艺的16Gbit MLC NAND闪存,该器件将于08年Q2量产。目前,东芝新建的用于NAND制造的Fab 4产能已经达到80,000片/月,并计划于明年将产能提高到210,000片/月,成为全球最大的晶圆厂。

    三星也已经于去年底宣布,成功开发出30nm工艺的64Gb NAND闪存,成为当前工艺最为先进的NAND闪存。“这是当前全球最大容量的单一存储芯片,”三星电子投资关系部高级经理Kwon Hyosun说到。不过,三星表示,这款新型NAND将要到2009年才会开始生产。此外,三星还对其CTF(Charge Trap Flash)技术寄予厚望,该技术允许其更容易地将NAND工艺缩小到20nm,可以生产出256Gb的NAND芯片

    “该先进工艺将加速计算机市场对SSD的接受过程。” Intel 的NAND产品事业部市场总监Pete Hazen表示。IM Flash期望这款NAND可令下游厂商制造出低成本的大容量SSD固态硬盘,未来1.8寸固态硬盘容量可达256GB以上。

    但对于当前NAND市场而言,跨入30nm时代并不是一个好消息,受消费疲软影响,SanDisk已经发表声明说NAND市场将在整个2008年保持过剩,新工艺的导入无疑使该市场雪上加霜。

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