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[导读]应用材料公司日前宣​​布,推出新的物理气相沉积(PVD)和电浆强化化学气相沉积(PECVD)技术,促使超高画质(UHD)电视及高像素密度显示屏的行动装置迈向新纪元。这项重大转型技术的关键是新的金属氧化物与低温

应用材料公司日前宣​​布,推出新的物理气相沉积(PVD)和电浆强化化学气相沉积(PECVD)技术,促使超高画质(UHD)电视及高像素密度显示屏的行动装置迈向新纪元。这项重大转型技术的关键是新的金属氧化物与低温多晶矽(LTPS)材料,可用来制造更快速、更小巧的薄膜电晶体(TFT),适用于液晶显示器(LCD)和有机发光二极体(OLED)技术。 Applied AKT-PiVot?物理气相沉积和Applied AKT-PX电浆强化化学气相沉积薄膜沉积系统为面板业者提供高效能、符合成本效益的途径,带动先进材料的量产。

应用材料公司集团副总裁暨显示器事业群总经理汤姆.艾德曼(Tom Edman)表示:「在过去的20年中,TFT技术的精进,推动显示器产业进行一场最关键的技术转型。应用材料公司开发出通过验证的系统产品组合,协助我们客户技术跃进,进而运用这些新的薄膜。客户利用我们的系统获得出色的成果,应用材料公司业已获得主要显示器制造商的多张订单。

针对采用金属氧化物的TFT,应用材料公司的AKT-PiVot PVD系统使用专属的旋转阴极技术来沉积铟镓锌氧化物(IGZO),这是具有高电子迁移率的新材料,能形成电晶体通道。 PiVot 系统为显示器产业提供了强大的IGZO 解决方案,能够克服影响显示器品质的显示不均(mura effect) 缺陷,这项问题曾让金属氧化物技术无法成为液晶显示器的主流。此外,由PiVot 沉积的铟镓锌氧化物薄膜突破了TFT 稳定性问题,确保OLED可以使用金属氧化物背板,大幅降低成本,让经济实惠而细致鲜艳的大型OLED电视成为可能。

低温多晶矽(LTPS)技术是一项通过验证的方法,可用来制造行动LCD和OLED装置的最高解析度显示幕,但一直面临玻璃基板放大问题和单位制造成本高昂的挑战。应用材料公司AT-PX电浆强化化学气相沉积系统的全新扩充系列产品,可在1.6平方公尺到5.7平方公尺的玻璃基板上沉积出极为均匀的LTPS薄膜。这些加大的基板,让面板制造商能够实现经济规模,大幅提高产能并降低成本,同时也让全球各地数十亿的消费者能够享受大型LCD电视。应用材料的系统用于大面积玻璃制造,也有助加速LTPS技术的转型,让行动装置与电视的显示屏变得更大。

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