VEECO 和 ALLOS 演示业界领先的 200MM GAN‐\ON‐\SILICON 性能来实现 MICRO‐\LED 的应用

Plainview，N.Y.， Veeco Instruments Inc.(Nasdaq：VECO)宣布与 ALLOS Semiconductors(ALLOS)完成一项战略措施，以展示 200mm 硅基板用于氮化镓蓝/绿光 Micro‐LED 的生产上。 Veeco 与 ALLOS 合作将其专有的磊晶技术转移到 Propel® Single‐Wafer MOCVD 系统上，以便于现有的硅生产线上实现生产 Micro‐LED。

“使用 Propel 反应腔，我们就拥有了一项 MOCVD 技术来实现高产能的 GaN 磊晶，可满足在200mm 硅生产线上生产 Micro‐LED 元件的所有要求， “ALLOS 半导体公司执行长 Burkhard Slischka表示。不到一个月的时间，我们就已经在 Propel 上建立了我们的技术，并且获得了无裂纹、无回熔 (meltback‐free)的晶圆，其翘曲度低于 30 微米，晶体质量高，优异的厚度均匀性与小于 1nm 的波长均匀性。和 Veeco 一起，ALLOS 期待将这种技术更广泛地应用于 Micro‐LED 的产业中。“

Micro‐LED 显示技术由< 30x30 平方微米的红色，绿色，蓝色(RGB)无机 LED 所组成，再转化为显示器背板以形成子像素。与 OLED 和 LCD 相比，这些高效率 LED 直接发射且耗电量更低，却可以为移动显示器，电视机和穿戴式装置提供卓越的亮度和对比度。Micro‐LED 的製造需要高质量、均匀的磊晶晶片来满足显示器的产量和成本控制的目标。

“与竞争对手的 MOCVD 平台相比，由于 Veeco 的 TurboDisc® technology 提供了更广泛的製程范围，因此 Propel 提供了一流的均匀性同时还能获得优良的薄膜品质。”Veeco 高级副总裁兼

MOCVD 营运总经理 Peo Hansson 博士表示。“将 Veeco 领先的 MOCVD 专业技术与 ALLOS 的 GaN‐ on‐Silicon 的磊晶技术结合在一起，使我们的客户能够开发出低成本的Micro‐LED，为新的市场中的开拓出新的应用。”