ASML：新一代光刻机即将就要在明年正式在市场亮相

一台光刻机，内部包含了十万多个零件，阿斯麦尔凭借着庞大的全球供应链，在这个领域占据了多年的鳌头。但是，因为美国对规则的修改，反而倒逼全球企业在光刻机方面实现独立自主，其中，特别是我国，近年来的进展尤为迅速和顺利。

再加上，如今已经渐渐就要触及摩尔定律的极限，因此，阿斯麦尔为了延长自己光刻机产品的寿命，因此也开始在光刻机方面进行相应的发展。如今，新一代光刻机即将就要在明年正式在市场亮相。

那么，阿斯麦尔在光刻机设备方面放出这样的大动作，对于自身的发展而言会有怎样的影响呢?在阿斯麦尔新一代光刻机即将亮相的情况下，旧款的EUV光刻机是否能对我国出货呢?

根据路透社2022年5月20日报道，阿斯麦尔如今正在研发一款新型光刻机，价值据说高达4亿美元。这样的价格贵吗?其实还真有点，别的不说，就拿目前最先进的这一代EUV光刻机来说吧，目前一台售价大约2亿美元的样子。这台新型光刻机直接就等于目前两台这样的普通EUV。

价格昂贵自然也有昂贵的道理，在体型上，正在研发的这款新型光刻机大约和双层巴士差不多。而且，这台EUV光刻机据说生产的芯片更加高端，将用于生产下一代芯片，芯片终端领域可以覆盖手机、汽车、AI等等。具体怎样，根据阿斯麦尔透露，在2030年上半年就会亮相了。目前，估摸这台新型光刻机应该也会很惊艳的。

如今，阿斯麦尔终于开始发力了，终于没有继续躺在老本上，当一只温水里的青蛙了，随着新型光刻机的落地，将会给阿斯麦带来怎样的影响呢?

此举对阿斯麦尔影响几何?

今年4月20日，阿斯麦尔公开表示，目前根本就没有任何迹象表明全球芯片放缓预计今年和明年的芯片产能仍将严重短缺。如今，阿斯麦尔不仅仅要将当前EUV光刻机的年产量提升到70台，还要落地这样一台更加先进的新型EUV光刻机。截至发稿，阿斯麦(ASML.US)涨2.50%，报539.13美元。据报道，阿斯麦正在制造新款极紫外线(EUV)光刻机，每台售价约4亿美元。阿斯麦公司高级管理人员表示，新一代高数值孔径EUV光刻机的原型机将在2023年上半年制造完成。这些高管说，顶级芯片供应商准备最早2025年开始使用上述产品的量产机。

最新消息称，荷兰ASML正在研发新款光刻机， 价值高达4亿美元(约合26亿元人民币)，双层巴士大、重超200吨。

原型机预计2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年到2030年主力出货。

这款机器应该指的就是High-NA EXE:5200(0.55NA)，Intel是全球第一个下单的公司。所谓High-NA也就是高数值孔径，2nm之后的节点都得依赖它实现。

在ASML公布的今年一季度财报中，EXE:5200已经订出去不止一台。按计划，第一台原型试做机2023年开放，预计由imec(比利时微电子研究中心)装机，2025年后量产，第一台预计交付Intel。

据了解，实际上，ASML的EUV光刻机非常庞大，现售的0.33NA EUV光刻机拥有超10万零件，需要40个海运集装箱或者4架喷气货机才能一次性运输完成，单价1.4亿美元左右。

据称，ASML 计划在 2026-2030 年，将这款设备打造成为公司旗舰产品，最早 2025 年有望将生产模型投入使用，但目前对 ASML 来说仍是一项工程挑战。

ASML 荷兰总部一位高管对路透表示，原型机有望在 2023 年上半年完工。他们说，该公司和长期研发合作伙伴 IMEC 正在现场建立一个测试实验室，也是第一个实验室，以此进一步研究机器的性能，并准备最早于 2025 年以此进行模型生产。该公司必然会遇到技术或供应链障碍，但他们几乎没有试错的余地。

与半导体行业各公司合作的非营利研究组织 IMEC 认为，在阿斯麦设立实验室，可以节省至多一年的开发时间。

阿斯麦表示，该公司接到了 5 份试点机器订单，预计将于 2024 年交付，还有来自 5 家不同客户的“5 份以上”订单，将从 2025 年开始交付更先进的生产机型。

ASML 的 EUV 项目主管 Christophe Fouquet 表示:“现在每一张支票都是绿色的。但是，你要知道，我们仍然需要看到这一切 (组装)。”

当然，该项目的命运对 ASML 客户也很重要，尤其是现阶段在全球半导体短缺的情况下，各大芯片制造商都在竞相扩大产能。

超大规模集成电路研究公司 (VLSI Research) 专家丹・哈奇森 (Dan Hutcheson) 没有参与 ASML 项目，他表示，这种被称为“High-NA”版 EUV 的新技术可能为一些芯片制造商提供显著优势。

“这有点像谁有最好的枪，”他说“所以 ASML 要么让它发生，要么不让它发生”，“但如果他们做到了，而你却没有得到，你将毫无疑问地错过它，并将从此失去竞争力。”

他表示，台积电在 2010 年代末首次整合了 ASML 的 EUV 光刻机，从而令英特尔等一众竞争对手黯然失色。去年刚上任的英特尔 CEO 帕特・盖尔辛格也因此发誓不会在 High-NA 上再犯同样的错误。

IT之家了解到，先进光刻技术是衡量芯片制造上限的关键因素，而这种 High-NA 光刻技术有望降低 66% 的尺寸大小。而在芯片制造领域，虽然目前的 3nm、5nm 已经不代表实际栅极宽度，但肯定还是越小越好。5月21日消息，最新消息称，荷兰ASML正在研发新款光刻机，价值高达4亿美元(约合26亿元人民币)，双层巴士大、重超200吨。原型机预计2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年到2030年主力出货。

这款机器应该指的就是High-NA EXE:5200(0.55NA)，Intel是全球第一个下单的公司。所谓High-NA也就是高数值孔径，2nm之后的节点都得依赖它实现。

在ASML公布的今年一季度财报中，EXE:5200已经订出去不止一台。按计划，第一台原型试做机2023年开放，预计由imec(比利时微电子研究中心)装机，2025年后量产，第一台预计交付Intel。实际上，ASML的EUV光刻机非常庞大，现售的0.33NA EUV光刻机拥有超10万零件，需要40个海运集装箱或者4架喷气货机才能一次性运输完成，单价1.4亿美元左右。