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2020年,ASM INTERNATIONAL在原子层沉积(ALD)领域仍然独占鳌头,成为全球最大、占有率最高的ALD设备供应商。另外,在外延生长(Epi)、增强等离子体化学气象沉积(PECVD)和立式炉管设备等领域,ASM INTERNATIONAL也斩获颇多。

受疫情影响,全球数字化进程发展迅速,半导体芯片需求旺盛,进而刺激了半导体设备市场的强劲增长。根据美国半导体产业调查公司VLSI公布的2020年半导体设备厂商销售量排行榜显示:2020年,半导体销售额高达924亿美元(约人民币6035亿元),同比增长18%。其中,较之2019年排名情况,ASM INTERNATIONAL表现亮眼,跻身全球前十大半导体设备厂商之列。

ASM INTERNATIONAL中国区总经理徐来表示,从2016年开始,ASM INTERNATIONAL的营业额年增长均为两位数以上。2018年和2019年增长最快,高达37%。相较于2019年,2020年ASM INTERNATIONAL总营收超过13亿欧元,增长了18%,总体呈现不断上升的趋势。这主要得益于中国半导体市场的迅猛增长,以及ASM INTERNATIONAL在全球先进逻辑制程市场不断增长的市场份额,尤其是中国市场,ASM International 中国获得了3 年10 倍增长的亮眼成绩。

图:2020年ASM INTERNATIONAL总营收增长18%

ASM INTERNATIONAL的业务中心和研发中心分布在全球七个地区,包括欧洲两个研发中心。日本和韩国两大事业部主要经营PEALD(增强等离子原子层沉淀)和PECVE(化学气相沉积)。炉管设备设计中心设在荷兰,美国有Epi和热传导相关的ALD。

“随着业务的增长,我们不再因为工厂的面积、生产能力而受限制。现在就整个供应链来讲,主要还是受制于零部件的交期,我们供应交期的时间也是根据每个月、每个季度供应链的交货情况所决定的。”徐来表示,工厂生产能力方面不会是ASM INTERNATIONAL的瓶颈。

2020年,ASM INTERNATIONAL在原子层沉积(ALD)领域仍然独占鳌头,成为全球最大、占有率最高的ALD设备供应商。另外,在外延生长(Epi)、增强等离子体化学气象沉积(PECVD)和立式炉管设备等领域,ASM INTERNATIONAL也斩获颇多。

徐来指出,作为ASM INTERNATIONAL的拳头产业,ALD占据了其设备收入的一半以上,所有设备均在国内有一定装机量。其中,Pulsar占比最高,在目前市场上占有率为100%。

“ASM INTERNATIONAL的ALD设备分为两类,一类和热相关,另一类和等离子相关。据VLSI调查数据显示,我们的单晶圆ALD在2019年全球市场份额中占53%。随着ALD收入呈两位数显著增长趋势,我们相信ASM INTERNATIONAL将在2021年依然保持领先地位。”

图:ASM INTERNATIONAL部分ALD设备

Epi在过去几年是非常热门的话题,ASM INTERNATIONAL为国内客户提供了更好的选择。外延生长是指在单晶衬底上生长一层新单晶层,外延生长的新单晶层可在导电类型、电阻率等方面与衬底不同,还可以生长不同厚度和不同要求的多层单晶,从而大大提高器件设计的灵活性,改善材料质量和器件性能。徐来提到:“讲到外延生长,厚外延技术是ASM INTERNATIONAL最领先的技术,该技术为ASM INTERNATIONAL扩大了中国市场。”

图:ASM INTERNATIONAL Epi系列设备

立式炉管是ASM INTERNATIONAL很早就开始涉及的领域,囊括了从6英寸到12英寸的所有需求,在最近三年开始有缓慢增长之势。其中200mm(8英寸)晶圆机型的装机量在过去两年里增长尤为迅速。

近年来,随着5G、物联网、人工智能、自动驾驶等技术的迅速发展,全球数字化进程加速,电子产品需求增加,进而推动了半导体市场成长。2020年全球爆发的新冠疫情加速了远程办公的普及速度,手机摄像头、电源芯片、指纹识别等产品需求大幅攀升,这些产品在8英寸晶圆上更具优势。因此8英寸晶圆产品线供需态势扭转,开始出现产能紧缺的情况。

在供给有限的情况下,市场对8英寸晶圆需求旺盛,因此对制造晶圆的设备需求也日益增长,从而让整个半导体市场开始重新审视8英寸晶圆线的投资与价值。虽然主流工艺走到了12寸,但既然市场对8英寸的需求有增无减,那么设备厂商是否一定要坚守12英寸市场,而无视8英寸市场的巨大需求呢?

ASM INTERNATIONAL适时推出了新型8英寸设备,自2018年A400首次投入市场之后,ASM INTERNATIONAL迅速打开了国内市场,主要客户包括功率器件和MEMS(微机电系统)厂商。本次ASM INTERNATIONAL在SEMICON 2021发布会上介绍的200mm新机型A400D,提供一系列全面的工艺应用,包括低压化学蒸汽沉积(LPCVD)工艺,如掺杂硅和氮化硅薄膜、扩散过程(如湿氧化和退化工艺)。

图:ASM INTERNATIONAL A400D 200mm晶圆设备

ASM INTERNATIONAL全球产品执行副总裁Hichem M'Saad表示:“A400D设备可以确保ASM INTERNATIONAL扩大其在电力、模拟、RF和MEMS应用市场领导者的地位。随着200mm制造开始复兴,在IoT设备等增长的推动下,我们现有的立式炉管技术显然仍能取得行业领先成果。将我们的技术与机器人和控制方面的最新创新相结合,显著增强了系统的制造能力,以实现当今的生产目标。”

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